2025年2月9日
星期日
|
欢迎来到叙永县图书馆•公共文化服务平台
登录
|
注册
|
进入后台
[
APP下载]
[
APP下载]
扫一扫,既下载
全民阅读
职业技能
专家智库
参考咨询
您的位置:
专家智库
>
>
张绵
作品数:
2
被引量:11
H指数:1
供职机构:
电子部
更多>>
发文基金:
国家自然科学基金
更多>>
相关领域:
电子电信
更多>>
合作作者
王占国
中国科学院半导体研究所
吴巨
中国科学院半导体研究所
何宏家
中国科学院半导体研究所
范缇文
中国科学院半导体研究所
张德胜
西安电子科技大学
作品列表
供职机构
相关作者
所获基金
研究领域
题名
作者
机构
关键词
文摘
任意字段
作者
题名
机构
关键词
文摘
任意字段
在结果中检索
文献类型
2篇
中文期刊文章
领域
2篇
电子电信
主题
2篇
砷化镓
1篇
旁栅效应
1篇
中位
1篇
可靠性
1篇
半绝缘
1篇
GAAS衬底
1篇
MESFET...
1篇
表面处理
1篇
衬底
1篇
GAAS
机构
1篇
中国科学院
1篇
西安电子科技...
1篇
电子部
1篇
中国电子科技...
作者
2篇
张绵
1篇
范缇文
1篇
何宏家
1篇
顾瑛
1篇
吴巨
1篇
张德胜
1篇
王占国
传媒
1篇
Journa...
1篇
电子产品可靠...
年份
2篇
1997
共
2
条 记 录,以下是 1-2
全选
清除
导出
排序方式:
相关度排序
被引量排序
时效排序
半绝缘GaAs衬底中位错对MESFETs旁栅效应的影响
被引量:10
1997年
在位错密度不同的LEC半绝缘(SI)GaAs衬底上离子注入制做MESFETs,观察衬底位错对MESFETs旁栅效应的影响.结果表明,衬底中高位错密度可以抑制旁栅效应.
吴巨
何宏家
范缇文
王占国
张绵
关键词:
砷化镓
衬底
MESFETS
旁栅效应
GaAs表面处理与可靠性
被引量:1
1997年
本文采用不同表面处理方法制备样品,利用C-V和边栅效应测试图形研究其对肖特基势垒的正向n值、反向击穿电压和边栅效应的影响。将不同表面处理方法制备的器件进行可靠性试验。由此给出GaAs表面处理的优化方法。
顾瑛
张德胜
张绵
关键词:
表面处理
砷化镓
全选
清除
导出
共1页
<
1
>
聚类工具
0
执行
隐藏
清空
用户登录
用户反馈
标题:
*标题长度不超过50
邮箱:
*
反馈意见:
反馈意见字数长度不超过255
验证码:
看不清楚?点击换一张