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王制修

作品数：2 被引量：0H指数：0
供职机构：中国航空工业集团公司更多>>
相关领域：理学更多>>

合作作者

文献类型

  • 2篇中文专利

领域

  • 1篇理学

主题

  • 2篇增透
  • 2篇增透膜
  • 2篇入射
  • 2篇入射角
  • 2篇膜料
  • 2篇基底
  • 2篇角范围
  • 2篇ZNS

机构

  • 2篇中国航空工业...

作者

  • 2篇刘凤玉
  • 2篇王一坚
  • 2篇李号召
  • 2篇袁兆峰
  • 2篇孙红晓
  • 2篇吴晓鸣
  • 2篇李辛
  • 2篇王制修
  • 2篇许照东

年份

  • 1篇2013
  • 1篇2012
共 2 条 记 录，以下是 1-2
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排序方式：
一种ZnS基底1064nm、8μm～10μm光波段大入射角增透膜及ZnS光窗
本发明涉及光学器件及其加工技术领域，具体公开了一种以ZnS为基底，在1064nm和8μm～10μm两个光波段具有大入射角高透过率的增透膜，同时还公开了一种采用该增透膜的ZnS光窗。该增透膜由六个膜层组成，第1、3、5膜层...
套格套吴晓鸣李辛李号召许照东王制修刘凤玉孙红晓王一坚袁兆峰
一种ZnS基底1064nm、8μm～10μm光波段大入射角增透膜及ZnS光窗
本发明涉及光学器件及其加工技术领域，具体公开了一种以ZnS为基底，在1064nm和8μm～10μm两个光波段具有大入射角高透过率的增透膜，同时还公开了一种采用该增透膜的ZnS光窗。该增透膜由六个膜层组成，第1、3、5膜层...
套格套吴晓鸣李辛李号召许照东王制修刘凤玉孙红晓王一坚袁兆峰
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