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赵延

作品数：18 被引量：0H指数：0
供职机构：包头天骄清美稀土抛光粉有限公司更多>>
相关领域：金属学及工艺冶金工程化学工程电子电信更多>>

合作作者

文献类型

  • 16篇专利
  • 1篇期刊文章
  • 1篇科技成果

领域

  • 5篇金属学及工艺
  • 2篇化学工程
  • 2篇冶金工程
  • 1篇电子电信

主题

  • 9篇抛光粉
  • 7篇稀土抛光粉
  • 3篇多元醇
  • 3篇研磨
  • 3篇氧化铈
  • 3篇抛光
  • 3篇羧酸
  • 2篇选择比
  • 2篇选择性
  • 2篇研磨效率
  • 2篇氧空位
  • 2篇离子
  • 2篇钠离子
  • 2篇晶格
  • 2篇晶格常数
  • 2篇高选择性
  • 2篇高压反应釜
  • 2篇反应釜
  • 2篇钇
  • 2篇铈

机构

  • 18篇包头天骄清美...
  • 1篇内蒙古科技大...
  • 1篇包头稀土研究...

作者

  • 18篇赵延
  • 14篇周薇
  • 13篇杨国胜
  • 13篇程磊
  • 13篇杜悦
  • 9篇谢兵
  • 9篇崔凌霄
  • 6篇白小羽
  • 6篇张喜龙
  • 5篇李春旭
  • 5篇王健
  • 4篇黄绍东
  • 2篇乔军
  • 2篇王传国
  • 1篇胡艳宏
  • 1篇刘宏

传媒

  • 1篇内蒙古科技大...

年份

  • 5篇2023
  • 2篇2022
  • 3篇2020
  • 1篇2018
  • 1篇2017
  • 6篇2016
共 18 条 记 录，以下是 1-10
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排序方式：
稀土抛光粉的制备方法
本发明公开了一种稀土抛光粉的制备方法，包括：制备稀土元素镧、铈、钐、钇的氟碳酸稀土，氟的加入量为REO的5％～10％；氟碳酸稀土的焙烧和粒度分级制得稀土抛光粉；稀土抛光粉包括：氧化镧、氧化铈、氧化钐和氧化钇。本发明通过精...
黄绍东杨国胜张存瑞周薇赵延刘露涛程磊杜悦王泽门宇剑
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稀土抛光粉及其制备方法
本发明公开了一种稀土抛光粉的制备方法，包括：制备稀土元素镧、铈、钐、钇的氟碳酸稀土，氟的加入量为REO的5％～10％；氟碳酸稀土的焙烧和粒度分级制得稀土抛光粉。本发明还公开了一种稀土抛光粉，包括氧化铈和氧化钇，氧化铈的稀...
黄绍东杨国胜张存瑞周薇赵延刘露涛程磊杜悦王泽门宇剑
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一种重量法测定稀土抛光粉沉降速度的装置
本实用新型涉及一种重量法测定稀土抛光粉沉降速度的装置，包括电子天平、沉降管，沉降管竖直安放在电子天平的称重面上，其特征是：在电子天平的称重面外围设有天平罩，在天平罩上水平放置有一个长方形支撑架，在支撑架的一个长边的一侧中...
崔凌霄谢兵杨国胜张倩悦刘致文程磊王健周薇李春旭杜悦藏桥雨赵延白小羽张喜龙
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高选择性浅槽隔离化学机械抛光浆料的制备工艺
本发明公开了一种高选择性浅槽隔离化学机械抛光浆料的制备工艺，制取碳酸铈浆料，碳酸铈浆料经升温、灼烧制备纳米级的氧化铈；将氧化铈用去离子水调浆，经高速剪切乳化、高速离心分离、超声波分散后制得氧化铈抛光浆料。本发明得到的CM...
崔凌霄谢兵杨国胜张存瑞刘致文赵延程磊杜悦张倩悦
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CMP用铈钇研磨材料及其制备方法
本发明公开了一种CMP用铈钇研磨材料及其制备方法，制备方法包括：将铈、钇的可溶性盐分别溶解，混合后得到钇铈混合溶液，采用均相共沉淀法制得氢氧化铈钇；将氢氧化铈钇中的低价铈氧化成高价铈，反应物过滤后将滤饼放入高压反应釜中，...
周薇赵延刘露涛程磊杜悦王泽门宇剑黄绍东杨国胜张存瑞
一种稀土抛光粉废料多级沉降回收装置
本实用新型涉及一种稀土抛光粉废料多级沉降回收装置，包括沉淀池，沉淀池为长方形池体，在沉淀池的前端上部设有废料料浆加入管道，在沉淀池的尾端上部设有排水管道，其特征是：在沉淀池中等间隔的设有竖直挡板，在挡板上部的一个边角上开...
崔凌霄谢兵杨国胜周薇刘致文张倩悦程磊王健杜悦张喜龙白小羽赵延
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“节能减排”型稀土抛光粉焙烧回转窑设计研究
崔凌霄谢兵杨国胜赵延程磊杜悦门宇剑王泽刘致
该项目研究方向为节能减排、绿色环保的工艺为前提，生产高品质稀土抛光粉。 项目内容是以该公司为基地建立天然气焙烧实验回转窑，引入负压引风调节系统和防腐耐热材料浇筑技术，提高对回转窑温度的控制。同时采集不同条件下的窑体内外...
关键词：
关键词：稀土抛光粉
一种研磨镜片摆放支架
本实用新型涉及一种研磨镜片摆放支架，包括长方体形金属框支架，其特征是：在金属框支架的前侧和后侧分别设有立板，立板上开有立槽，立槽上方的立板板面上开有横槽，在前后两块立板的横槽间和立槽间分别设置有一组或一组以上的镜片支撑梁...
谢兵崔凌霄杨国胜程磊赵延张倩悦李春旭白小羽杜悦张喜龙王泰洋
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抛光组合物及其制备方法和用途
本发明公开了一种抛光组合物及其制备方法和用途，基于抛光组合物的总重量，抛光组合物包括如下组分：研磨颗粒0.2～12wt%，聚(甲基)丙烯酸盐0.01～10wt%，C5‑C12多元醇0.1～28wt%，和C2‑C8羧酸0....
赵延张存瑞周薇杨斌
高选择性浅槽隔离化学机械抛光浆料及其制备工艺
本发明公开了一种高选择性浅槽隔离化学机械抛光浆料，包括：水、氧化铈、分散剂、聚甲基丙烯酸盐、pH缓冲调节剂；按照质量百分比计，氧化铈的含量为0.3‑25％，聚甲基丙烯酸盐为固体氧化铈的0.05％‑5％，分散剂为聚甲基丙烯...
崔凌霄谢兵杨国胜张存瑞刘致文赵延程磊杜悦张倩悦
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共2页<12>
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