李福龙
- 作品数：8 被引量：1H指数：1
- 供职机构：天津理工大学更多>>
- 发文基金：天津市科技计划国家自然科学基金更多>>
- 相关领域：自动化与计算机技术理学电子电信更多>>
- 基于ARM7的静电探针测量仪的设计被引量：1
- 2011年
- 设计了一种以ARM7为核心的静电探针自动测量仪,能够满足等离子参数测量的需要.该测量仪由A/D模块,D/A模块,以及隔离放大模块构成,可以实现对等离子体I-V特性曲线的获得,通过计算和分析伏安特性曲线从而获得等离子体密度和温度等相关参数.该系统具有成本低廉、携带方便、易于实用化等优势.
- 许旺陈政李福龙黄艳祥王飞苗银萍宋殿友张楷亮
- 关键词：等离子体伏安特性曲线A/DD/A
- 一种用于声表面波器件的六方氮化硼压电薄膜及制备方法
- 一种用于声表面波器件的六方氮化硼压电薄膜，为h-BN/Al/金刚石复合膜结构，由金刚石衬底、中间层纳米铝膜和纳米六方氮化硼h-BN膜依次叠加组成，其制备方法是采用MOCVD沉积系统制备，先对金刚石衬底表面进行表面等离子体...
- 陈希明张倩阴聚乾朱宇清李福龙郭燕孙连婕
- 文献传递
- 大面积均匀平坦纳米AlN薄膜的研制
- 2013年
- 采用射频磁控溅射法,通过优化沉积工艺,在n型(100)Si片上制备出(100)择优取向表面粗糙度均匀的氮化铝(AlN)薄膜。当溅射功率为120 W和N2∶Ar=12∶8时,制备的AlN薄膜的结晶性最好,101.6mm AlN薄膜样品的表面粗糙度为3.31-3.03nm,平均值为3.17nm。研究结果表明:射频磁控溅射能量和N2浓度是实现大面积、均匀平坦、纳米级AlN薄膜的重要制备工艺参数。
- 朱宇清陈希明李福龙李晓伟杨保和
- 关键词：表面粗糙度均匀性
- 一种多层膜结构的声表面波器件及其制备方法
- 一种多层膜结构的声表面波器件，由CVD金刚石薄膜、a轴择优取向的氮化铝（a-AlN）薄膜、c轴择优取向的氮化硼（c-BN）薄膜和叉指换能器（IDT）依次叠加组成金刚石-复合膜结构，所述CVD金刚石薄膜的厚度为20-25u...
- 陈希明李福龙薛玉明朱宇清张倩阴聚乾郭燕孙连婕
- 文献传递
- 适合于声表面波器件的双晶向AlN薄膜的制备研究
- 随着电子通讯设备信息处理量的日益增大，通讯载波频率必须向GHz或更高水平发展，因而多层膜结构声表面波(SAW)器件正因其高频特性而备受学者关注。(100)AlN由于具有高声速，(002)AlN具有高的机电耦合系数，结合以...
- 李福龙
- 关键词：声表面波器件射频磁控溅射表面粗糙度
- 文献传递
- 一种用于声表面波器件的氧化锌压电薄膜及其制备方法
- 一种用于声表面波器件的氧化锌压电薄膜，为在单晶硅基片衬底上制备的氧化锌/铝/类金刚石复合膜结构，其制备方法是：将表面清洗干净的单晶硅基片放入脉冲激光系统的真空生长腔中，以石墨、铝为靶材，沉积类金刚石/铝薄膜；然后以氧化锌...
- 陈希明张倩阴聚乾朱宇清李福龙郭燕孙连婕
- 文献传递
- 一种择优取向的AlN压电薄膜及其制备方法
- 一种择优取向的AlN压电薄膜，由CVD金刚石衬底和a轴择优取向AlN薄膜叠加组成，CVD金刚石衬底厚度为20-25um、表面粗糙度低于5nm，a轴择优取向AlN薄膜厚度为60-80nm；其制备方法是：将清洗后的CVD金刚...
- 陈希明李福龙薛玉明朱宇清张倩阴聚乾郭燕孙连婕
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- 一种用于氧化镍薄膜化学机械平坦化的纳米抛光液及应用
- 一种用于氧化镍薄膜化学机械平坦化的纳米抛光液，由纳米研磨料、pH调节剂、表面活性剂、消泡剂、杀菌剂、助清洗剂和溶剂混合组成，纳米研磨料为氧化铈或二氧化硅，pH调节剂由无机pH调节剂和有机pH调节剂组成复合pH调节剂，表面...
- 张楷亮张涛峰王芳尹立国张扬李福龙胡智翔
- 文献传递
