孙伟龙
- 作品数：4 被引量：2H指数：1
- 供职机构：哈尔滨工业大学更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金更多>>
- 相关领域：一般工业技术自动化与计算机技术电子电信更多>>
- 波形可控新型高功率脉冲磁控(MPP)电源研制及AICrN薄膜制备
- 我们研制了一种新型的波形可控新型高功率脉冲磁控(MPP)电源,该电源可以实现阶梯波形高功率脉冲输出,有效控制了放电过程,减少了打火；与传统高功率脉冲磁控(HPPMS)相比,沉积速率更高。电源平均输出功率10kW,脉冲宽度...
- 孙伟龙魏松巩春志田修波
- 波形可控新型高功率脉冲磁控(MPP)电源研制及AICrN薄膜制备
- 我们研制了一种新型的波形可控新型高功率脉冲磁控(MPP)电源,该电源可以实现阶梯波形高功率脉冲输出,有效控制了放电过程,减少了打火;与传统高功率脉冲磁控(HPPMS)相比,沉积速率更高。电源平均输出功率10kW,脉冲宽度...
- 孙伟龙魏松巩春志田修波
- 关键词：高功率脉冲MPP
- 多功能高离化率真空镀膜控制系统研制
- 高离化率在离子沉积领域有非常重要的意义，不但可以提高薄膜的密度和结合力等性能，还能沉积复杂工件，降低沉积温度、对沉积材料到不同区域有导向作用。可调脉冲高功率磁控溅射技术（MPP）和脉冲增强电子发射技术（P3e）都具有很高...
- 孙伟龙
- 关键词：自动控制
- 文献传递
- 新型阴极弧电源研制及脉冲增强电子发射(P3e)效应研究被引量：2
- 2014年
- 本文研制了新型脉冲阴极弧电源,并实现了脉冲增强电子发射(P3e)以提高真空室内等离子体密度。该电源核心由脉冲发射和维持电流系统构成,由单片机和触摸屏系统协同控制和管理。对P3e电源进行放电特性和脉冲增强电子发射效应进行了研究。结果表明,在相同平均电弧电流条件下,与直流相比,P3e技术能够显著提高工件(基体)脉冲电流与平均电流。在电弧平均电流90 A时,基体脉冲电流由5 A提高到19.6 A,基体平均电流由2.2 A最大提高到4.6 A,表明脉冲增强了电子发射,进而获得高的等离子体密度,这将有助于增加膜层致密性、降低膜层应力。该新型电源对于阴极弧靶中毒抑制、膜层结构改善、膜层颗粒污染控制具有重要的意义。
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- 关键词：脉冲电流
