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文献类型

  • 2篇中文期刊文章

领域

  • 1篇电子电信
  • 1篇理学

主题

  • 1篇氮化镓
  • 1篇低压
  • 1篇多脉冲
  • 1篇照射
  • 1篇脉冲
  • 1篇纳米
  • 1篇纳米压印
  • 1篇纳米压印技术
  • 1篇晶体
  • 1篇激光
  • 1篇激光剥离
  • 1篇激光照射
  • 1篇光子
  • 1篇光子晶体
  • 1篇二极管
  • 1篇二维光子
  • 1篇二维光子晶体
  • 1篇发光
  • 1篇发光二极管
  • 1篇GAN

机构

  • 2篇厦门大学

作者

  • 2篇朱丽虹
  • 2篇陈志远
  • 2篇曾凡明
  • 2篇刘宝林
  • 2篇林飞
  • 1篇李晓莹
  • 1篇樊海涛

传媒

  • 1篇厦门大学学报...
  • 1篇现代电子技术

年份

  • 2篇2014
2 条 记 录,以下是 1-2
排序方式:
低压下激光剥离的研究被引量:1
2014年
为了研究低压环境对激光剥离的影响,利用准分子激光剥离系统和真空腔对GaN/蓝宝石样品分别在低压下和常压下进行多脉冲激光照射,之后用台阶仪测量样品的分解深度,得知相比常压环境,低压下GaN分解深度在脉冲次数为10次、20次、30次时分别增加了为10.2%,19.0%,24.3%,之后结合GaN材料分解过程和脉冲激光照射GaN/蓝宝石结构过程进行理论分析得到相应低压和常压下的GaN材料的理论分解深度,得到与实验一致的趋势。证明了低压环境能提高激光剥离速率。
林飞陈志远刘宝林朱丽虹李晓莹曾凡明
关键词:GAN激光剥离
纳米压印技术制备表面二维光子晶体发光二极管
2014年
研究利用纳米压印技术在氮化镓(GaN)基发光二极管(LED)表面制备二维光子晶体结构对器件出光的影响.利用聚合物(IPS)软模板二次压印技术,在样品表面形成较为完整的掩膜,通过感应耦合等离子体(ICP)刻蚀工艺分别在p-GaN层与ITO层成功制备了较大面积的光子晶体结构,结构周期为465nm,孔状结构直径为245nm.制成芯片后对样品进行测试,结果表明在LED表面制备二维光子晶体结构会导致LED芯片光谱峰值位置发生偏移,同时在p-GaN层制备二维光子晶体结构能够将LED芯片的发光强度提高39%,而在ITO层所制备的光子晶体结构并未对器件的性能有显著的改善.
陈志远刘宝林朱丽虹樊海涛曾凡明林飞
关键词:纳米压印光子晶体氮化镓发光二极管
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