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陈广彬

作品数:2 被引量:1H指数:1
供职机构:长春理工大学理学院更多>>
发文基金:吉林省环保局科技项目更多>>
相关领域:理学更多>>

文献类型

  • 1篇期刊文章
  • 1篇学位论文

领域

  • 2篇理学

主题

  • 2篇溅射
  • 1篇应力
  • 1篇透过率
  • 1篇离子束
  • 1篇离子束溅射
  • 1篇离子束溅射沉...
  • 1篇禁带
  • 1篇禁带宽度
  • 1篇溅射沉积
  • 1篇溅射制备
  • 1篇光学
  • 1篇光致
  • 1篇光致发光
  • 1篇发光
  • 1篇TI
  • 1篇TIO
  • 1篇磁控
  • 1篇磁控溅射
  • 1篇磁控溅射制备
  • 1篇Z

机构

  • 2篇长春理工大学

作者

  • 2篇陈广彬
  • 1篇朱明海
  • 1篇汪剑波
  • 1篇冯禹
  • 1篇龚楠

传媒

  • 1篇长春理工大学...

年份

  • 2篇2014
2 条 记 录,以下是 1-2
排序方式:
离子束溅射沉积制备TiO/_2薄膜及其光学特性研究
离子束溅射因为其优异的工艺稳定性,能够制备高质量性能优越的薄膜而越来越受到人们的关注,现已经成为制备高性能薄膜的重要手段。本论文在室温条件下通过离子束溅射沉积技术在K9玻璃和和高纯的P型/(100/)晶面硅上制备透明均匀...
陈广彬
关键词:离子束溅射沉积应力透过率光致发光
文献传递
磁控溅射制备Ti-Zn-O复合薄膜及其光学性质研究被引量:1
2014年
TiO2是作为一种宽禁带半导体材料可作为紫外器件,但因其间接带隙结构、禁带宽度仅为3.0eV等特点,严重影响其应用范围。本文利用共溅射技术,通过Zn掺杂,在K9玻璃基底上制备了Ti-Zn-O复合薄膜,并研究了Zn溅射功率对其结构及光学性质的影响。结果显示:所制备的薄膜为ZnTiO3和不饱和TiO2的复合结构,随着Zn粒子的溅射能量增加,晶粒尺寸和表面粗糙度增加,并可将薄膜本征吸收边蓝移至3.61eV。
朱明海陈广彬冯禹龚楠汪剑波
关键词:磁控溅射禁带宽度
共1页<1>
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