范新磊
- 作品数：11 被引量：17H指数：3
- 供职机构：中北大学更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金国家重点基础研究发展计划更多>>
- 相关领域：电子电信机械工程更多>>
- 微流体细胞仪及制作方法
- 本发明涉及医学检测领域，具体为一种微流体细胞仪及制作方法。解决了目前传统的血细胞仪体积庞大、价格昂贵，特别是互染率高的技术问题。一种微流体细胞仪，主要包括微流体芯片和特制的外部检测部件，所述微流体芯片上设有样本通道、聚焦...
- 王万军杨潞霞段俊萍张斌珍王春水郝晓剑张勇范新磊李向红邵国成
- 文献传递
- 射频同轴传输线的设计仿真与加工工艺被引量：7
- 2013年
- 基于SU-8和BPN紫外负性感光胶,结合微电镀工艺加工制作射频同轴传输线,以实现射频器件信号的传输与耦合。首先确定在阻抗匹配情况下同轴传输线特性阻抗为50Ω的同轴传输线的具体尺寸,然后通过HFSS仿真软件对设计的结构进行模拟仿真。通过仿真结果验证设计的可行性,采用紫外光刻技术利用SU-8光刻胶做出内导体支柱,并用BPN光刻胶做出结构,对结构进行电镀。最后将BPN光刻胶剥离,即可得到射频同轴传输线。此方法制得的同轴传输线具有介质损耗小、辐射损耗小、无色散、带宽大和抗干扰强的优点,适用于高性能射频和微波电路。另外,它的制作工艺能与其他射频和微波器件及集成电路工艺兼容,便于与射频和微波电路集成。
- 范新磊张斌珍张勇郝晓剑吴淑娟
- 关键词：同轴传输线光刻SU-8光刻胶
- 微流体细胞仪及制作方法
- 本发明涉及医学检测领域，具体为一种微流体细胞仪及制作方法。解决了目前传统的血细胞仪体积庞大、价格昂贵，特别是互染率高的技术问题。一种微流体细胞仪，主要包括微流体芯片和特制的外部检测部件，所述微流体芯片上设有样本通道、聚焦...
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- 文献传递
- 基于微流体芯片结构的PDMS二次倒模工艺研究被引量：2
- 2012年
- 研究了用于制作微流体芯片结构的聚二甲基硅氧烷(PDMS)与PDMS之间的倒模方法。首先,通过使用同一个微流体芯片模具倒出多个相同的PDMS负模结构;接着分别在各负模结构上溅射不同种类、不同厚度的金属,然后再对溅射过金属的负模上浇铸PDMS并固化以进行二次倒模,最后对二次倒模出的PDMS微流体结构表面粘连、结构完整性、尺寸等进行观测,从而通过比较得到倒模溅射所需的最佳金属和溅射金属薄膜的最优厚度。此方法倒出的PDMS微流体结构完整性好,不仅提出了一种全新的用于PDMS倒模的方法,而且解决了PDMS与PDMS之间直接倒模时所遇到的相互粘连和结构撕裂等难题。
- 郝晓剑张斌珍杨潞霞范新磊姚徳启王春水
- 关键词：微流体聚二甲基硅氧烷溅射倒模
- 毫米波腔体滤波器的制作方法
- 本发明为一种毫米波腔体滤波器的制作方法。本发明使用光刻胶作为结构材料并配合不同图案的掩膜板，采用多层匀胶、逐层光刻、最终一次显影技术，可以精确构造出腔体滤波器复杂的三维结构。利用弹性优异的柔性材料PDMS对其进行翻模，构...
- 王万军段俊萍张斌珍张安学张勇王研杨潞霞崔敏姚德启范新磊郝晓剑李向红
- 毫米波腔体滤波器的制作方法
- 本发明为一种毫米波腔体滤波器的制作方法。本发明使用光刻胶作为结构材料并配合不同图案的掩膜板，采用多层匀胶、逐层光刻、最终一次显影技术，可以精确构造出腔体滤波器复杂的三维结构。利用弹性优异的柔性材料PDMS对其进行翻模，构...
- 王万军段俊萍张斌珍张安学张勇王研杨潞霞崔敏姚德启范新磊郝晓剑李向红
- 文献传递
- 主光轴平行于基底的微透镜阵列制作与测试被引量：5
- 2013年
- 应用SU-8负性感光胶的独特性能,采用水浴倾斜紫外光刻的方法,优化工艺参数,构造出主光轴平行于基底的球面微透镜阵列,其单个透镜的直径约为200μm。利用激光扫描共聚焦显微镜(LSCM)对微透镜的表面形貌及曲率半径进行测量,并搭建光学观测平台,测得透镜焦距并观察成像效果。经观测,所加工球面微透镜具有较好的表面形貌和成像效果。基于此方法加工的微透镜阵列,主光轴平行于基底,因而便于与其他光学系统进行片上集成,完成对光线的聚焦,最终实现光开关、扫描成像等功能。此微透镜阵列也将集成在微流式细胞仪上,用于样本流的荧光检测,可极大提高检测精度。
- 张勇张斌珍吴淑娟姚德启范新磊
- 关键词：微透镜阵列SU-8成像检测
- 基于PDMS的纳米级光栅制作方法
- 本发明涉及光栅制作技术领域，具体为一种基于PDMS的纳米级光栅制作方法，解决了现有的纳米光栅制作方法所用设备昂贵、工艺条件苛刻复杂、难以控制、制作成本高、周期长的问题。一种基于PDMS的纳米级光栅制作方法，包括如下步骤：...
- 闫树斌段俊萍张斌珍王万军王伟崔敏贾志浩张勇杨潞霞毛静范新磊姚德启
- 文献传递
- 基于SU-8的微流沟道的设计和制作被引量：1
- 2012年
- 以SU—8作为结构材料,采用紫外光刻工艺,尤以斜曝光工艺为主,制造一种新型的、小型化的、低成本的、三维的、高深宽比的微流沟道,微流沟道的高度约为1100μm。初步确定出加工此微流沟道结构所需要的曝光计量、前烘时间、后烘时间和显影时间以及工艺方法,为加工其他尺寸的微流沟道提供参考。基于此方法加工的微流沟道可以应用在微型流式细胞仪上,来提供红细胞计数、血色素浓度、血小板计数和红细胞单元指数等参数。
- 李向红张斌珍孟祥娇范新磊
- 关键词：光刻工艺高深宽比
- 基于PDMS的纳米级光栅制作方法
- 本发明涉及光栅制作技术领域，具体为一种基于PDMS的纳米级光栅制作方法，解决了现有的纳米光栅制作方法所用设备昂贵、工艺条件苛刻复杂、难以控制、制作成本高、周期长的问题。一种基于PDMS的纳米级光栅制作方法，包括如下步骤：...
- 王万军段俊萍张斌珍杨潞霞崔敏姚德启张勇范新磊
