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刘夏来

作品数:8 被引量:16H指数:3
供职机构:成都精密光学工程研究中心更多>>
发文基金:国家高技术研究发展计划更多>>
相关领域:金属学及工艺理学机械工程自动化与计算机技术更多>>

文献类型

  • 5篇期刊文章
  • 3篇专利

领域

  • 3篇金属学及工艺
  • 1篇机械工程
  • 1篇自动化与计算...
  • 1篇理学

主题

  • 6篇光学
  • 5篇光学元件
  • 3篇口径
  • 2篇套圈
  • 2篇偏心
  • 2篇偏心轮
  • 2篇反射波
  • 2篇分离器
  • 2篇大口径
  • 1篇镀膜
  • 1篇数据管理
  • 1篇碳化硅
  • 1篇碳化硅反射镜
  • 1篇抛光
  • 1篇抛光粉
  • 1篇抛光工艺
  • 1篇平面光学元件
  • 1篇浏览
  • 1篇浏览器
  • 1篇离轴

机构

  • 8篇成都精密光学...
  • 1篇四川大学

作者

  • 8篇刘夏来
  • 6篇杨李茗
  • 5篇鄢定尧
  • 4篇刘民才
  • 3篇刘义彬
  • 3篇邱服民
  • 3篇胡江川
  • 3篇张宁
  • 2篇赵春茁
  • 2篇姜莉
  • 2篇何曼泽
  • 2篇周佩璠
  • 2篇李瑞洁
  • 2篇戴红岭
  • 2篇欧光亮
  • 2篇王琳
  • 2篇蔡红梅
  • 1篇冯国英
  • 1篇巨光
  • 1篇高胥华

传媒

  • 1篇光学技术
  • 1篇激光与光电子...
  • 1篇工具技术
  • 1篇强激光与粒子...
  • 1篇电脑知识与技...

年份

  • 1篇2013
  • 2篇2011
  • 1篇2010
  • 2篇2008
  • 2篇2007
8 条 记 录,以下是 1-8
排序方式:
大口径方形离轴非球面的非球面度计算与应用研究被引量:4
2007年
采用不同的数值计算方法求解了大口径(340mm×340mm)方形离轴非球面的最接近球面曲率半径和非球面度,得出了各种不同的磨削量及其对应的分布结构。对不同的最接近球面及非球面度所适用的加工工艺和检测方法进行了分析和评价。这对离轴非球面的加工和检测具有一定的指导意义。
鄢定尧刘民才刘义彬刘夏来李瑞洁杨李茗
关键词:离轴非球面
斐索干涉仪检测工作台
本实用新型公开了一种斐索干涉仪检测工作台,旨在提供一种检测平面光学元件面形配套设备。它包括承载台、工件支架和检测底座,承载台上设有导轨,工件支架的底部设有滑动滚珠。本实用新型使工件的恒温等待过程和检测过程分离,实现了工件...
杨李茗李瑞洁石琦凯刘夏来张宁于杰巨光段敏
文献传递
环摆抛双面抛光机
本发明公开了一种环摆抛双面抛光机,属于光学元件加工技术领域。它包括下盘、套圈、分离器、上盘和主臂,套圈与主动轮、限位轮外切,还包括辅机座和偏心轮,上盘的上端经主臂与辅机座连接,上盘上设有辅臂,辅臂外端与偏心轮连接,偏心轮...
杨李茗鄢定尧何曼泽刘民才王琳欧光亮周佩璠刘义彬刘夏来蔡红梅胡江川张宁姜莉戴红岭邱服民赵春茁
Web技术与产品数据管理研究
2008年
PDM作为一门技术,它是依托IT技术实现企业最优化管理的有效方法,是科学的管理框架与企业现实问题相结合的产物.是计算机技术与企业文化结合的一种产品。现代企业把企业的PDM解决方案与Web的优势(Web节点的可扩充性和易维护性.Web技术的独特联合式分布模式等等)结合在一起。本文概述Web的产品数据管理技术,简单介绍了Web技术与PDM的发展PDM、的产生背景、PDM网络环境。
刘夏来
关键词:WEB浏览器PDM
环摆抛双面抛光机
本发明公开了一种环摆抛双面抛光机,属于光学元件加工技术领域。它包括下盘、套圈、分离器、上盘和主臂,套圈与主动轮、限位轮外切,还包括辅机座和偏心轮,上盘的上端经主臂与辅机座连接,上盘上设有辅臂,辅臂外端与偏心轮连接,偏心轮...
杨李茗鄢定尧何曼泽刘民才王琳欧光亮周佩璠刘义彬刘夏来蔡红梅胡江川张宁姜莉戴红岭邱服民赵春茁
文献传递
超精密抛光中合适参量抛光粉的选择被引量:5
2007年
在超精密抛光加工过程中,抛光粉参量对抛光质量的影响很大。试验研究抛光粉主要参量随抛光时间的变化规律,得到了适合超精密抛光的抛光粉参量的主要特点。根据抛光原理分析了抛光粉的主要参量对抛光表面的作用机理,提出一种选择适于抛光的合适参量抛光粉的方法。结果表明,利用该方法选择的抛光粉可稳定地加工出高质量的超光滑表面。
韩敬华杨李茗冯国英刘民才高胥华刘夏来杨浩
关键词:光学材料超光滑表面粒度分布表面疵病
光学元件镀膜前高洁净度清洗工艺研究被引量:4
2010年
研究了光学元件镀膜前超高洁净度要求的超声清洗工艺,在超声波清洗机的频率和功率一定的情况下,通过研究超声清洗剂、清洗温度、清洗时间等对光学元件超声清洗效果的影响,研制出有效清洗光学元件的清洗工艺,并保障超声清洗工艺对光学元件的表面状况无损伤。同时发现光学元件的放置时间会影响元件的清洗效果。超声清洗刚加工好的光学元件洁净效果较好,清洗时间较短;有6个月存放期的光学元件,表面颗粒污染很难洁净清洗。
胡江川刘夏来邱服民郭波鄢定尧杨李茗
关键词:光学元件超声清洗
大口径碳化硅反射镜数控抛光工艺被引量:3
2013年
研究了针对600mm口径方形轻质碳化硅元件的数控抛光工艺过程,采用国产OP1000数控研磨抛光机床对一块600mm×480mm的方形碳化硅元件进行数控抛光加工。在经过两周的加工时间,碳化硅光学元件的通光口径均方根(RMS)值收敛到了35nm(大约为λ/18,λ=632.8nm)。在加工过程中针对大口径椭圆形碳化硅反射镜采用了合适的加工参数优化,例如在加工过程中的不同阶段选择了不同颗粒度的金刚石微粉作为特定阶段的抛光辅料以保证光学元件的表面粗糙度。对计算机控制数控加工技术的快速收敛过程也进行了阐释。
朱衡刘夏来黄金勇鄢定尧马平
关键词:大口径光学元件碳化硅参数优化抛光
共1页<1>
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