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董洁文

作品数：1 被引量：1H指数：1
供职机构：苏州科技学院数理学院更多>>
发文基金：苏州市科技计划项目国家自然科学基金更多>>
相关领域：理学更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇理学

主题

  • 1篇电学
  • 1篇电学性质
  • 1篇性能研究
  • 1篇石墨
  • 1篇石墨烯
  • 1篇气相
  • 1篇气相沉积
  • 1篇气相沉积法
  • 1篇金相
  • 1篇金相显微镜
  • 1篇化学气相
  • 1篇化学气相沉积
  • 1篇化学气相沉积...

机构

  • 1篇苏州科技学院

作者

  • 1篇马锡英
  • 1篇董洁文
  • 1篇吕孝鹏
  • 1篇王鑫
  • 1篇王珊珊
  • 1篇邵雪峰
  • 1篇许元鲜
  • 1篇陈康烨
  • 1篇邓雅丽
  • 1篇张浩

传媒

  • 1篇物理实验

年份

  • 1篇2013
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
用化学气相沉积法制备石墨烯薄膜及其电学性能研究被引量：1
2013年
以甲烷作为反应气体、利用高温化学气相沉积法分别在纯硅片和镀镍镉过渡层硅片上沉积石墨烯薄膜,应用金相显微镜和电学特性测试分析了700,900,950℃温度下生长的石墨烯薄膜的表面形貌、伏安特性及其他电学特性.发现镍铬过渡层具有显著的催化作用,可有效降低石墨烯的生长温度.随着生长温度的升高,样品中电子迁移率随之增大,伏安特性的线性度也越好.对纯硅片上生长的石墨烯,发现高温有利于甲烷有效分解和成核,可有效提高表面电子浓度和电子迁移率,其迁移率可达到2.52×104 cm2/V.
张浩董洁文吕孝鹏王鑫许元鲜邵雪峰王珊珊邓雅丽陈康烨马锡英
关键词：石墨烯化学气相沉积法金相显微镜电学性质
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