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穆慧

作品数：1 被引量：0H指数：0
供职机构：郑州大学物理工程学院材料物理教育部重点实验室更多>>
相关领域：一般工业技术更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇一般工业技术

主题

  • 1篇直流反应磁控...
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  • 1篇溅射
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  • 1篇反应磁控溅射
  • 1篇ZAO薄膜
  • 1篇ZNO:AL
  • 1篇沉积速率
  • 1篇磁控
  • 1篇磁控溅射

机构

  • 1篇郑州大学

作者

  • 1篇耿梅艳
  • 1篇王海燕
  • 1篇穆慧
  • 1篇邹上荣

传媒

  • 1篇真空

年份

  • 1篇2009
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
工艺参数对直流反应磁控溅射ZnO:Al薄膜沉积速率的影响
2009年
实验以合金靶材在玻璃衬底上运用直流反应磁控溅射法制备了ZAO(ZnO:Al)透明导电薄膜样品。研究了O2气流量,衬底温度,以及反应气压和溅射功率等工艺参数对ZAO薄膜沉积速率的影响规律。结果表明:沉积速率随O2气流量的增加显著降低,靶面溅射模式由金属模式转变为氧化物模式,而且这种转变趋势在改变其他参数时依然明显;沉积速率随溅射功率的增大几乎成线性增加,但随衬底温度的变化并不大;在反应气压增大的情况下,沉积速率不断上升,达到最大值后,又随气压的增大不断下降。
邹上荣王海燕耿梅艳穆慧
关键词：ZAO薄膜直流反应磁控溅射沉积速率
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