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赵巧云

作品数：1 被引量：4H指数：1
供职机构：河北工业大学信息工程学院微电子技术与材料研究所更多>>
发文基金：国家自然科学基金国家科技重大专项更多>>
相关领域：电子电信更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇电子电信

主题

  • 1篇去除速率
  • 1篇稳定性
  • 1篇化学机械抛光
  • 1篇机械抛光
  • 1篇硅衬底
  • 1篇ULSI
  • 1篇CMP
  • 1篇衬底

机构

  • 1篇河北工业大学

作者

  • 1篇刘效岩
  • 1篇刘玉岭
  • 1篇周建伟
  • 1篇赵巧云
  • 1篇刘海晓

传媒

  • 1篇半导体技术

年份

  • 1篇2010
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
ULSI硅衬底CMP速率稳定性的研究被引量：4
2010年
介绍了ULSI硅衬底的抛光工艺,并对其抛光机理进行了理论分析。通过对抛光液循环使用过程中CMP速率稳定性及其影响因素进行深入系统的分析,得出pH值、抛光温度和黏度等因素的变化是影响抛光速率稳定性的主要原因。并提出改进方案:控制好温度范围和流量的改变,以及循环中适当增加新的抛光液。为CMP速率稳定性的研究提供了有意义的借鉴。
赵巧云周建伟刘玉岭刘效岩刘海晓
关键词：化学机械抛光硅衬底去除速率稳定性
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共1页<1>
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