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丁万煜

作品数：1 被引量：3H指数：1
供职机构：大连理工大学材料科学与工程学院三束材料改性教育部重点实验室更多>>
发文基金：国家自然科学基金更多>>
相关领域：理学更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇理学

主题

  • 1篇氮化碳
  • 1篇电子谱
  • 1篇原子力显微镜
  • 1篇拉曼
  • 1篇拉曼光谱
  • 1篇功率
  • 1篇光电
  • 1篇光电子
  • 1篇光谱
  • 1篇非平衡磁控溅...
  • 1篇X射线
  • 1篇X射线光电子...
  • 1篇磁控
  • 1篇磁控溅射

机构

  • 1篇大连理工大学

作者

  • 1篇朴勇
  • 1篇董闯
  • 1篇高鹏
  • 1篇王德和
  • 1篇邓新绿
  • 1篇丁万煜
  • 1篇徐军

传媒

  • 1篇真空科学与技...

年份

  • 1篇2005
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
溅射靶功率对氮化碳薄膜结构的影响被引量：3
2005年
利用双放电腔微波ECR等离子体增强非平衡磁控溅射技术,在Si(100)上制备氮化碳薄膜,并对薄膜进行了拉曼(Raman)、原子力显微镜(AFM)、X射线光电子谱(XPS)等结构的表征。发现溅射靶功率对制膜工艺、薄膜的结构和表面形貌产生很大影响。随着溅射靶功率的增大,薄膜的沉积速率减小,表面粗糙度增大,薄膜结构中的sp2含量增加。
高鹏徐军朴勇丁万煜邓新绿王德和董闯
关键词：非平衡磁控溅射拉曼光谱X射线光电子谱原子力显微镜
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