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张路路

作品数:5 被引量:11H指数:2
供职机构:西安科技大学更多>>
发文基金:国家自然科学基金更多>>
相关领域:金属学及工艺电气工程化学工程更多>>

文献类型

  • 2篇期刊文章
  • 2篇专利
  • 1篇学位论文

领域

  • 1篇化学工程
  • 1篇金属学及工艺
  • 1篇电气工程

主题

  • 4篇合金
  • 3篇氧化物
  • 3篇尖晶石
  • 3篇固体氧化物
  • 3篇合金镀
  • 2篇镀液
  • 2篇离子
  • 2篇离子源
  • 2篇缓冲剂
  • 2篇合金镀液
  • 2篇服役寿命
  • 1篇电沉积
  • 1篇电流
  • 1篇电流密度
  • 1篇镀层
  • 1篇数对
  • 1篇涂层
  • 1篇转化膜
  • 1篇微观形貌
  • 1篇连接体

机构

  • 5篇西安科技大学

作者

  • 5篇张路路
  • 4篇朱明
  • 3篇张慧慧
  • 1篇朱青
  • 1篇余勇

传媒

  • 2篇表面技术

年份

  • 1篇2018
  • 2篇2017
  • 1篇2016
  • 1篇2015
5 条 记 录,以下是 1-5
排序方式:
AZ91D镁合金Mo-Mn无铬转化膜的制备与耐蚀性被引量:7
2015年
目的通过Mo-Mn无铬转化膜提高AZ91D镁合金的表面耐蚀性。方法采用正交实验法,研究不同浓度的NaMoO4和KMnO4以及温度对转化膜的影响。优选实验参数后,考察时间对转化膜的影响。利用SEM及EDS研究转化膜的微观形貌及成分变化,测试转化膜在3.5%NaCl溶液中的极化曲线和交流阻抗谱。结果当NaMoO4和KMnO4的质量浓度分别为10,6 g/L,pH=5,温度为50℃,转化时间为40 min时,转化膜颜色较为均匀,微观裂纹相对较少,自腐蚀电位比镁基体大约提高0.075 V,自腐蚀电流密度比镁基体降低近1个数量级。当Na Mo O4和KMnO4的质量浓度分别为20,8 g/L,pH=5,温度为50℃,转化时间为40 min时,转化膜颜色最为均匀,微观裂纹相对最少,自腐蚀电位比镁基体提高大约0.047 V,自腐蚀电流密度比镁基体降低2个数量级。交流阻抗谱图显示,后一种转化膜试样的极化电阻为1450.2Ω,而镁基体的极化电阻为806.4Ω。结论 Mo-Mn无铬转化膜可以显著提高AZ91D镁合金的表面耐蚀性。
朱青朱明余勇张路路
关键词:AZ91D镁合金耐蚀性高锰酸盐
一种用于制备铜锰尖晶石涂层的铜锰合金镀液及其应用
本发明提供了一种用于制备铜锰尖晶石涂层的铜锰合金镀液,包括以下浓度的各组分:铜离子源0.025mol/L~0.1mol/L;锰离子源0.25mol/L~1.0mol/L;螯合剂0.03mol/L~0.1mol/L;缓冲剂...
张慧慧朱明张路路
文献传递
Cu-Mn尖晶石涂层的制备与高温性能的研究
随着中温SOFC技术的成熟应用,使得低价不锈钢铁素体作为连接体成为可能。但是,在SOFC的工作环境中,不锈钢铁素体表面会不断发生氧化,铁素体中会不断挥发出气态Cr,从而导致面比电阻增大与单电池的阴极毒化。在基体的表面增加...
张路路
关键词:固体氧化物连接体电沉积高温性能
一种用于制备铜锰尖晶石涂层的铜锰合金镀液及其应用
本发明提供了一种用于制备铜锰尖晶石涂层的铜锰合金镀液,包括以下浓度的各组分:铜离子源0.025mol/L~0.1mol/L;锰离子源0.25mol/L~1.0mol/L;螯合剂0.03mol/L~0.1mol/L;缓冲剂...
朱明张慧慧张路路
文献传递
工艺参数对铜锰合金镀层组织和成分的影响被引量:2
2017年
目的在基体表面制备出均匀平整、致密且与基体结合良好的合金镀层,合金镀层中Mn的原子数分数达20%以上。方法用电沉积方法以氯酸盐体系,用EDTANa2作为络合剂,在SUS430不锈钢表面制备了Cu-Mn合金镀层,利用SEM及EDS研究了镀层的微观形貌及成分变化,分析了电流密度、pH值、沉积时间、电解液中n(Cu):n(Mn)比等参数对镀层微观结构和成分的影响。结果电流密度为200~700 m A/cm^2、pH值为3~7、时间为10~30 min和n(Cu):n(Mn)比为1:20~1:10时,镀层中的Mn含量随电流密度、pH值及时间的增大而增大,随着n(Cu):n(Mn)比值的增大而减小。结论电镀Cu-Mn合金的优化工艺参数是:电流密度为500 m A/cm2,pH值为5,时间为20 min,n(Cu):n(Mn)比为1:10。此时能够得到均匀、致密、与基体结合良好的合金镀层,且合金镀层中Mn的原子数分数能达到20%以上。质量良好的Cu-Mn合金镀层在固体氧化物燃料电池中具有潜在的应用价值。
张路路朱明张慧慧
关键词:电流密度H值微观形貌
共1页<1>
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