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刘柳

作品数：1 被引量：4H指数：1
供职机构：浙江大学更多>>
相关领域：电子电信更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇电子电信

主题

  • 1篇面粗糙度
  • 1篇刻蚀
  • 1篇SIO
  • 1篇ICP刻蚀
  • 1篇表面粗糙度
  • 1篇粗糙度

机构

  • 1篇浙江大学

作者

  • 1篇戴道锌
  • 1篇时尧成
  • 1篇孙淼
  • 1篇刘柳

传媒

  • 1篇光学仪器

年份

  • 1篇2007
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
减小SiO_2光波导表面粗糙度的ICP干法刻蚀工艺研究被引量：4
2007年
波导表面粗糙度引起的散射损耗是SiO2光波导传输损耗的主要来源,通过降低表面粗糙度可以获得低损耗SiO2光波导。通过优化ICP干法刻蚀工艺的各参数(如温度、压强、气体流量、感应/偏置功率等)获得了低粗糙度的SiO2光波导,并采用SEM和AFM对刻蚀表面粗糙度进行了定量测试。采用优化刻蚀工艺可将表面粗糙度从35.4nm降低到3.6nm,波导传输损耗约为0.1dB/cm。
孙淼时尧成戴道锌刘柳
关键词：ICP刻蚀表面粗糙度
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共1页<1>
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