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关丽雅

作品数:5 被引量:20H指数:3
供职机构:北京理工大学材料学院更多>>
相关领域:化学工程一般工业技术金属学及工艺更多>>

文献类型

  • 4篇期刊文章
  • 1篇学位论文

领域

  • 2篇化学工程
  • 2篇金属学及工艺
  • 2篇一般工业技术

主题

  • 4篇电铸
  • 4篇
  • 3篇晶界
  • 2篇电流
  • 2篇电流密度
  • 2篇定量金相
  • 2篇定量金相分析
  • 2篇微观结构
  • 2篇相分析
  • 2篇金相
  • 2篇金相分析
  • 2篇晶界结构
  • 2篇晶界特征
  • 2篇晶界特征分布
  • 2篇晶粒
  • 1篇电子背散射衍...
  • 1篇药型罩
  • 1篇占空比
  • 1篇织构
  • 1篇特征参数

机构

  • 5篇北京理工大学

作者

  • 5篇关丽雅
  • 4篇王富耻
  • 4篇李树奎
  • 4篇郑秀华
  • 2篇吕广庶
  • 1篇王翔宇

传媒

  • 1篇稀有金属材料...
  • 1篇电镀与精饰
  • 1篇电镀与涂饰
  • 1篇北京理工大学...

年份

  • 1篇2010
  • 3篇2009
  • 1篇2008
5 条 记 录,以下是 1-5
排序方式:
电铸铜微观组织与织构的研究被引量:3
2009年
采用扫描电镜、透射电镜和电子背散射衍射技术,研究了不锈钢上厚度约2.2mm的电铸铜层的微观组织、晶粒取向和晶界特征。实验表明,其组织主要由柱状晶构成,靠近基体50~100μm处的铸层由细小等轴晶和细小柱状晶构成。对于所有晶区,小角度晶界(<15°)的分布频率较小,大角度(>15°)晶界为电铸铜组织的主要晶界。在大角度晶界中,CSL晶界占有很大比例,其中∑3的分布频率较大。柱状晶由平行分布的层状孪晶构成,近似垂直于柱状晶长轴,层间孪晶界为∑3类型。铸层存在较显著的铜型织构,即<111>择优取向,并且随铸层厚度的增加而加强。
关丽雅郑秀华王富耻李树奎吕广庶
关键词:电铸微观结构晶界特征分布电子背散射衍射
电铸Cu的显微组织、晶粒取向和晶界结构被引量:1
2010年
采用SEM,TEM和EBSD研究了电铸Cu的微观组织形貌、晶粒取向和晶界特征.SEM观察表明,沿沉积方向,组织由细小等轴晶区、等轴晶和柱状晶的混合晶区转变为粗大柱状晶区.EBSD分析表明,对于所有晶区,小角度晶界(<15°)的分布频率较小,大角度(≥15°)晶界为电铸Cu组织的主要晶界.在大角度晶界中,CSL晶界占有很大比例,其中Σ3的分布频率较大.柱状晶由平行分布的层状孪晶构成,近似垂直于沉积厚度方向,层间孪晶界为Σ3类型,TEM的观察也显示了孪晶的存在.细等轴晶区晶粒的择优取向不明显,混合晶区和粗柱状晶区有明显的〈111〉和〈101〉择优取向.在粗柱状晶区,平行于沉积厚度方向,具有较强的〈111〉择优取向,表明大多数{111}孪晶面垂直于沉积厚度方向.
关丽雅郑秀华王富耻李树奎
关键词:晶界特征分布EBSD
脉冲参数对电铸铜组织形态和硬度的影响被引量:9
2008年
采用脉冲电源,酸性硫酸铜电铸液,研究脉冲电流密度和占空比对电铸层组织形貌及硬度的影响。结果表明,在80%占空比条件下,电流密度从3 A/dm2升高到5 A/dm2,铸层晶粒细化、平均硬度升高;而在电流密度为5 A/dm2情况下,占空比由50%提高到80%,铸层晶粒细化。在电流密度5A/dm2、占空比80%、频率200 H z条件下,可获得约600μm厚的细晶铸层,晶粒直径小于10μm。
关丽雅郑秀华王富耻李树奎王翔宇吕广庶
关键词:电流密度占空比微观结构
电流密度对电铸铜晶粒组织的影响被引量:7
2009年
采用脉冲电源、酸性硫酸铜电铸液制备一定厚度的电铸铜,研究脉冲电流密度对电铸铜晶粒组织的影响。利用IPP(Image-Pro Plus)图像分析软件测量晶粒组织特征参数,计算得到晶粒分布几率,建立电流密度与各种组织参数平均值的定量关系,获得电流密度对电铸铜组织形态的影响规律,并分析了其影响机制。结果表明,在占空比为80%和频率为200Hz的条件下,当电流密度从2A/dm2升高到6A/dm2,铸层中等轴晶的分布几率增加,晶粒的空间数量密度增加,晶粒长轴、短轴及面积平均值降低。
关丽雅郑秀华王富耻李树奎
关键词:定量金相分析特征参数电铸电流密度
电铸工艺参数对铜药型罩组织及性能的影响
关丽雅
关键词:定量金相分析晶界结构孪晶
共1页<1>
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