您的位置: 专家智库 > >

张天记

作品数:1 被引量:1H指数:1
供职机构:郑州轻工业学院材料与化学工程学院河南省表界面科学重点实验室更多>>
发文基金:河南省自然科学基金国家自然科学基金更多>>
相关领域:金属学及工艺更多>>

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇金属学及工艺

主题

  • 1篇电沉积
  • 1篇电结晶
  • 1篇多壁碳纳米管
  • 1篇碳纳米管
  • 1篇纳米
  • 1篇纳米管
  • 1篇复合电沉积
  • 1篇MWCNTS
  • 1篇NI
  • 1篇

机构

  • 1篇郑州轻工业学...

作者

  • 1篇冯少彬
  • 1篇卫应亮
  • 1篇冯辉
  • 1篇陈俭民
  • 1篇崔亚锋
  • 1篇张天记
  • 1篇张勇

传媒

  • 1篇稀有金属材料...

年份

  • 1篇2009
1 条 记 录,以下是 1-1
排序方式:
复合电沉积Ni-MWCNTs及镍电结晶的研究被引量:1
2009年
研究了水平阴极方式复合电沉积Ni-MWCNTs(Ni-多壁碳纳米管)。采用硫酸镍基础电解液,添加适当表面活性剂和光亮剂,MWCNTs为2~2.5g/L,电流密度为2.5A/dm2时,获得的Ni-MWCNTs沉积层结构致密,复合沉积层中MWCNTs含量达22.45%。复合电沉积层表面微观形貌照片显示,MWCNTs在复合电沉积层中占主要体积,镍的电结晶形态呈球形,结晶点位置位于MWCNTs管壁缺陷处及部分管端处,MWCNTs的管端和管壁缺陷处的Ni晶粒相互连接,形成牢固的复合沉积层。复合电沉积层中MWCNTs含量受电解液中MWCNTs浓度、电流密度以及光亮剂影响,在MWCNTs上的Ni沉积层连续性直接受MWCNTs管壁上缺陷的数量和连续性影响,形成晶核的缺陷尺度至少在1nm以上。
冯辉张勇卫应亮陈俭民崔亚锋张天记冯少彬
关键词:复合电沉积多壁碳纳米管电结晶
共1页<1>
聚类工具0