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文献类型

  • 2篇中文期刊文章

领域

  • 2篇电子电信

主题

  • 2篇石墨
  • 2篇石墨烯
  • 1篇涂胶
  • 1篇气相
  • 1篇气相沉积
  • 1篇气相沉积法
  • 1篇刻蚀
  • 1篇化学气相
  • 1篇化学气相沉积
  • 1篇化学气相沉积...
  • 1篇CVD
  • 1篇超声处理

机构

  • 2篇厦门大学
  • 1篇中国电信集团
  • 1篇中国电信

作者

  • 2篇郭航
  • 2篇吴玉玲
  • 2篇张杰
  • 2篇张为中
  • 1篇曾毅波
  • 1篇吴长青

传媒

  • 2篇微纳电子技术

年份

  • 2篇2017
2 条 记 录,以下是 1-2
排序方式:
化学气相沉积法制备单层石墨烯的优化被引量:5
2017年
作为碳原子家族的最新成员,二维结构的石墨烯具备优异的物理化学性质和广阔的应用前景,成为新材料研究领域的热点研究对象。对化学气相沉积(CVD)法进行了优化,成功制备得到了高质量的单层石墨烯。优化后的实验工艺为:首先对铜箔进行化学抛光和退火预处理;然后将预处理后的铜箔加工成荷包状;氢气(H2)氛围下,以甲烷(CH4)为碳源,对石墨烯进行化学气相沉积;当甲烷和氢气体积流量分别为10 cm3/min和20 cm3/min时,在1 030℃条件下生长20 min制备得到最终样品。扫描电子显微镜(SEM)和激光喇曼光谱表征的结果显示:该方法制备的样品为大面积连续的单层石墨烯。
毕瑞可张杰吴玉玲曾毅波张为中郭航
关键词:石墨烯
石墨烯湿法转移过程工艺优化被引量:2
2017年
石墨烯的转移过程决定着石墨烯的品质,进而对石墨烯基器件的性能有重要的影响。针对化学气相沉积(CVD)法生长的石墨烯在湿法转移过程中存在的问题,在常规湿法转移的基础上进行了优化研究。实验结果表明:基体背面石墨烯的刻蚀工艺可以有效解决铜箔残留问题;采用二次涂胶工艺可以大幅降低石墨烯的裂痕破洞密度;超声波处理有效提升了石墨烯表面残胶的去除效率。优化后的转移工艺可以明显降低石墨烯产品中的杂质数量和缺陷密度,提升石墨烯的表面洁净度,显著地提高石墨烯质量。
吴玉玲毕瑞可张杰吴长青张为中郭航
关键词:石墨烯刻蚀涂胶超声处理
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