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王自力

作品数：1 被引量：0H指数：0
供职机构：西南应用磁学研究所更多>>
发文基金：中国电子科技集团公司创新基金更多>>
相关领域：一般工业技术电气工程更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇电气工程
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 1篇铁氧体
  • 1篇涂胶
  • 1篇光刻

机构

  • 1篇西南应用磁学...

作者

  • 1篇陈学平
  • 1篇陈彦
  • 1篇倪经
  • 1篇王自力

传媒

  • 1篇磁性材料及器...

年份

  • 1篇2014
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
铁氧体薄膜器件的光刻多次涂胶工艺
2014年
提出了铁氧体薄膜器件光刻多次涂胶新工艺,研究了涂覆次数对光刻胶的表面粗糙度、均匀性和厚度的影响。同时结合培烘试验,对一种实际电路基片进行了验证。试验结果表明:随着光刻胶涂覆次数的增加,光刻胶厚度逐渐增大,增加幅度逐渐减小,涂覆光刻胶的表面粗糙度有明显改善,均匀性也逐渐提高。当烘焙温度为50℃、烘焙时间为25min,光刻胶与基底的附着力、感光性和耐腐蚀性均能满足铁氧体器件薄膜电路制作工艺的要求。利用多次涂胶法可有效去除电路手工修补工艺,从而提高铁氧体薄膜器件的电路图形加工质量及效率。
陈学平陈彦倪经王自力
关键词：光刻
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