2025年2月14日
星期五
|
欢迎来到叙永县图书馆•公共文化服务平台
登录
|
注册
|
进入后台
[
APP下载]
[
APP下载]
扫一扫,既下载
全民阅读
职业技能
专家智库
参考咨询
您的位置:
专家智库
>
>
徐龙泉
作品数:
1
被引量:5
H指数:1
供职机构:
大连工业大学
更多>>
发文基金:
辽宁省自然科学基金
辽宁省教育厅高校重点实验室项目
教育部留学回国人员科研启动基金
更多>>
相关领域:
一般工业技术
更多>>
合作作者
马春
大连工业大学轻工与化学工程学院
王晓
大连工业大学纺织与材料工程学院
王娜
大连工业大学纺织与材料工程学院
杨启鹏
大连工业大学纺织与材料工程学院
作品列表
供职机构
相关作者
所获基金
研究领域
题名
作者
机构
关键词
文摘
任意字段
作者
题名
机构
关键词
文摘
任意字段
在结果中检索
文献类型
1篇
中文期刊文章
领域
1篇
一般工业技术
主题
1篇
修饰
1篇
偶联剂
1篇
重金
1篇
重金属
1篇
羟基磷灰石
1篇
硅烷
1篇
硅烷偶联
1篇
硅烷偶联剂
1篇
KH-570
1篇
表面修饰
机构
1篇
大连工业大学
作者
1篇
杨启鹏
1篇
王娜
1篇
王晓
1篇
马春
1篇
徐龙泉
传媒
1篇
材料导报
年份
1篇
2012
共
1
条 记 录,以下是 1-1
全选
清除
导出
排序方式:
相关度排序
被引量排序
时效排序
硅烷偶联剂KH-570表面修饰羟基磷灰石的结构与吸附性能研究
被引量:5
2012年
采用硅烷偶联剂KH-570对羟基磷灰石粉体进行表面修饰,使羟基磷灰石在聚合物介质中有较好的相容性和分散稳定性。采用红外光谱、热重、差热、激光粒度、Zeta电位和X射线衍射等方法对表面修饰前后的羟基磷灰石进行表征分析。结果表明,KH-570硅烷偶联剂结合在羟基磷灰石表面,并未对其晶体产生明显影响;羟基磷灰石经修饰后在水溶液中的Zeta电位绝对值增加,分散稳定性提高,粒子团聚程度降低,纳米级颗粒尺寸从272.8nm减小到166nm,Cd2+吸附性能随增重率的增加而降低。
王晓
杨启鹏
徐龙泉
马春
王娜
全选
清除
导出
共1页
<
1
>
聚类工具
0
执行
隐藏
清空
用户登录
用户反馈
标题:
*标题长度不超过50
邮箱:
*
反馈意见:
反馈意见字数长度不超过255
验证码:
看不清楚?点击换一张