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于文忠

作品数:3 被引量:4H指数:2
供职机构:北京科技大学更多>>
发文基金:北京市教委科技发展计划更多>>
相关领域:化学工程自动化与计算机技术更多>>

文献类型

  • 2篇期刊文章
  • 1篇学位论文

领域

  • 2篇化学工程
  • 1篇自动化与计算...

主题

  • 2篇镀层
  • 2篇合金
  • 2篇NI-P镀层
  • 2篇NI-P合金
  • 1篇电沉积
  • 1篇电沉积制备
  • 1篇纳米
  • 1篇纳米材料
  • 1篇耐蚀
  • 1篇耐蚀性
  • 1篇金镀层
  • 1篇合金镀
  • 1篇合金镀层
  • 1篇非晶
  • 1篇非晶纳米晶
  • 1篇NI-P合金...
  • 1篇表面形貌
  • 1篇P

机构

  • 3篇北京科技大学

作者

  • 3篇于文忠
  • 2篇孟惠民
  • 2篇孙冬柏
  • 2篇樊自栓
  • 2篇俞宏英
  • 1篇王玉

传媒

  • 2篇装备环境工程

年份

  • 3篇2007
3 条 记 录,以下是 1-3
排序方式:
非常规快速电沉积制备纳米材料的方法和原理被引量:2
2007年
非常规电沉积利用镀液的流动,能极大地提高电沉积速度,因而利用非常规电沉积技术制备纳米晶材料具有较好的发展和应用前景。介绍了电刷镀、流镀、喷射电沉积、摩擦喷射电沉积等几种常见的非常规电沉积的方法和原理,指出了各种方法的优缺点,展望了非常规快速电沉积技术的应用前景。
于文忠俞宏英孙冬柏孟惠民樊自栓
关键词:纳米材料
流动镀Ni-P合金镀层工艺的研究被引量:2
2007年
电沉积Ni-P合金镀层由于其优异的性能而在多个领域得到了广泛的应用;流动镀电沉积由于可以较快地提高电沉积速度而受到极大的关注;建立了镀液平行式流过电极表面的流动镀装置,采用该流动镀装置,通过改变电流密度、流速、电极间距等不同的工艺条件,研究了流动镀条件下,电流密度、流速、极间距对电沉积Ni-P合金镀层中P含量和表面形貌的影响规律,并初步探讨了流动镀条件下各工艺条件对电沉积过程的影响机理。
于文忠俞宏英王玉孙冬柏孟惠民樊自栓
关键词:NI-P镀层表面形貌
流动镀非晶纳米晶Ni-P合金镀层研究
于文忠
关键词:NI-P镀层耐蚀性非晶纳米晶
共1页<1>
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