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周洪军

作品数:4 被引量:1H指数:1
供职机构:中国科学技术大学核科学技术学院国家同步辐射实验室更多>>
发文基金:教育部“新世纪优秀人才支持计划”国家自然科学基金国家高技术研究发展计划更多>>
相关领域:机械工程一般工业技术理学更多>>

文献类型

  • 3篇会议论文
  • 1篇期刊文章

领域

  • 2篇机械工程
  • 2篇一般工业技术
  • 1篇理学

主题

  • 3篇多层膜
  • 2篇EUV
  • 1篇蛋白质二级结...
  • 1篇摇摆曲线
  • 1篇圆二色
  • 1篇圆二色光谱
  • 1篇窄带
  • 1篇真空紫外
  • 1篇真空紫外光谱
  • 1篇实验站
  • 1篇光谱
  • 1篇反射率
  • 1篇NSRL
  • 1篇MO/SI
  • 1篇MO/SI多...
  • 1篇超声
  • 1篇超声清洗

机构

  • 3篇同济大学
  • 3篇中国科技大学
  • 1篇中国科学技术...

作者

  • 4篇霍同林
  • 4篇周洪军
  • 3篇张众
  • 3篇王风丽
  • 3篇朱京涛
  • 3篇王占山
  • 3篇张淑敏
  • 2篇沈正祥
  • 1篇戚泽明
  • 1篇石军岩
  • 1篇吴文娟
  • 1篇陈玲燕
  • 1篇王洪昌
  • 1篇符义兵
  • 1篇张国斌
  • 1篇吴文清

传媒

  • 3篇中国光学学会...
  • 1篇核技术

年份

  • 1篇2007
  • 3篇2006
4 条 记 录,以下是 1-4
排序方式:
窄带Mo/Si多层膜反射镜
本文设计并制备了窄带Mo/Si多层膜反射镜,工作波长为14 nm。利用高反射级次和减小Mo 层厚度两种方法减小Mo/Si多层膜反射镜光谱宽度。对Mo层厚度分别为2 nm和3 nm的Mo/Si多层膜, 设计了反射级次分别从...
吴文娟朱京涛王风丽张众王洪昌张淑敏王占山陈玲燕周洪军霍同林
关键词:窄带EUV反射率
文献传递
极紫外多层膜基底表面粗糙度综合表征技术
研究用不同清洗方法对硅基底表面粗糙度的影响,首先使用原子力显微镜(AFM)直接测量硅片表面粗糙度。然后,利用直流磁控溅射方法,在相同制备工艺条件下镀制Mo/Si多层膜,使用X射线衍射仪(XRD)对多层膜二级衍射峰进行摇摆...
张淑敏朱京涛王风丽张众沈正祥王占山周洪军霍同林
关键词:多层膜超声清洗摇摆曲线
文献传递
NSRL真空紫外圆二色光谱实验站设计及性能测试被引量:1
2007年
本文介绍了中国科学技术大学国家同步辐射实验室(NSRL)真空紫外圆二色光谱测量装置的设计及安装调试结果,包括光学设计、样品池、数据采集系统、以及标准样品测量的结果。该实验站连接在弯铁光源和正入射单色器光束线的末端,在0.5nm光谱分辨下样品点的光子通量大于1012s-1。采用线性起偏器获得线偏振同步辐射,经过光弹调制器(PEM)获得重复频率约50kHz、左右旋交替的圆偏振光。通过高压伺服使得光电倍增管平均输出电流不变;使用锁相放大器采集与PEM同频的交流信号,得到圆二色光谱信号。常规实验条件(氮气氛保护、水作为溶剂、标准样品池)下,可测试的光谱范围是178—300nm。通过采用特殊溶剂、超短光程氟化物样品池等手段,可以将测试的短波限推至140nm。
张国斌吴文清石军岩周洪军戚泽明符义兵霍同林
关键词:圆二色蛋白质二级结构真空紫外光谱
EUV多层膜基底表面粗糙度综合表征技术
<正>多层膜反射镜是极紫外、软x射线光学中的一类重要的光学元件,近年来,随着纳米技术的进步, 人们在膜系设计、制备工艺上取得了很大的进步,但是对于超光滑基底的研究进展比较缓慢。在多层膜生长过程中,基底表面质量直接影响薄膜...
张淑敏朱京涛王风丽张众沈正祥王占山周洪军霍同林
文献传递
共1页<1>
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