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杨超

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王进
供职机构：中国电子科技集团公司第四十一研究所
研究主题：薄膜电路 光刻 电路图形 薄膜电阻 光刻胶
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孙建华
供职机构：中国电子科技集团公司第四十一研究所
研究主题：薄膜电路 电路图形 超薄 基片 电路
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刘金现
供职机构：中国电子科技集团公司第四十一研究所
研究主题：宽带 功率合成器 合成器 功率分配 多路
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马子腾
供职机构：中国电子科技集团公司第四十一研究所
研究主题：薄膜电路 电路图形 光刻 介质基片 电路
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