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王全

作品数:54 被引量:2H指数:1
供职机构:上海集成电路研发中心更多>>
相关领域:电子电信自动化与计算机技术电气工程更多>>

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地区

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16 条 记 录,以下是 1-10
范春晖
供职机构:上海集成电路研发中心
研究主题:硅纳米线 硅衬底 半导体 衬底 自顶向下
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
周伟
供职机构:上海集成电路研发中心
研究主题:CMOS图像传感器 光电二极管 漏极 分频器 晶体管
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
刘林林
供职机构:上海集成电路研发中心
研究主题:寄生电阻 MOS器件 射频 建模方法 寄生
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
胡少坚
供职机构:上海集成电路研发中心
研究主题:晶体管 漏极 刻蚀工艺 分频器 图像
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
郭奥
供职机构:上海集成电路研发中心
研究主题:漏极 晶体管 源极 阵列结构 存储器单元
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
全冯溪
供职机构:上海集成电路研发中心
研究主题:电容 金属连线 电极 槽栅 MOS器件
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
孙德明
供职机构:上海集成电路研发中心
研究主题:CMOS图像传感器 图像传感器 光电二极管 掺杂 量子效率
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
董洁琼
供职机构:上海集成电路研发中心
研究主题:牺牲 场限环 硅表面 快恢复二极管 掩膜
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
黄仁东
供职机构:上海集成电路研发中心
研究主题:刻蚀 金属栅 金属 淀积 抛光
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
肖慧敏
供职机构:上海集成电路研发中心
研究主题:CMOS图像传感器 湿法刻蚀 衬底电流 测试装置 测试系统
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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