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黄森
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92
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H指数:3
供职机构:
中国科学院微电子研究所
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合作作者
刘新宇
杭州士兰微电子股份有限公司
王鑫华
中国科学院微电子研究所
魏珂
中国科学院微电子研究所
郑英奎
中国科学院微电子研究所
王文武
中国科学院微电子研究所
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王鑫华
供职机构:中国科学院微电子研究所
研究主题:氮化镓 势垒层 刻蚀 GAN 增强型
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刘新宇
供职机构:中国科学院微电子研究所
研究主题:氮化镓 刻蚀 欧姆接触 衬底 外延层
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魏珂
供职机构:中国科学院微电子研究所
研究主题:氮化镓 刻蚀 势垒层 欧姆接触 ALGAN/GAN
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郑英奎
供职机构:中国科学院微电子研究所
研究主题:氮化镓 ALGAN/GAN GAN 电子束光刻 ALGAN/GAN_HEMT
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王文武
供职机构:中国科学院微电子研究所
研究主题:半导体器件 沟道 刻蚀 纳米线 半导体
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赵超
供职机构:清华大学
研究主题:半导体器件 衬底 栅极 沟道 金属硅化物
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刘果果
供职机构:中国科学院微电子研究所
研究主题:刻蚀 ALGAN/GAN_HEMT 氮化镓 电流崩塌 DOHERTY功率放大器
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包琦龙
供职机构:中国科学院微电子研究所
研究主题:高电子迁移率晶体管 二维电子气 沟道 阈值电压 功率电子器件
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樊捷
供职机构:中国科学院微电子研究所
研究主题:刻蚀 HEMT器件 氮化镓器件 氮化镓材料 氮化镓
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樊杰
供职机构:中国科学院微电子研究所
研究主题:光刻胶 光刻 刻蚀机 刻蚀 对等离子体
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