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刘钠

作品数：13 被引量：36H指数：2
供职机构：河北工业大学更多>>
相关领域：电子电信金属学及工艺自动化与计算机技术更多>>

合作作者

领域

  • 25个电子电信
  • 22个金属学及工艺
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  • 16个文化科学
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  • 15个理学
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  • 14个一般工业技术
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  • 3个航空宇航科学...
  • 3个农业科学
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主题

  • 20个CMP技术
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  • 19个机械抛光
  • 18个抛光
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  • 17个CMP
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  • 8个低K介质
  • 7个氮化钛

机构

  • 26个河北工业大学
  • 2个天津大学
  • 2个天津理工大学
  • 1个福建工程学院
  • 1个河北师范大学
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  • 1个天津工业大学
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  • 1个中国电子科技...
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  • 1个天津职业技术...
  • 1个中国电子科技...
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  • 1个北京七星华创...

资助

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  • 16个国家自然科学...
  • 10个国家科技重大...
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  • 3个河北省高等学...
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传媒

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  • 10个第十四届全国...
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  • 5个清洗世界
  • 4个光电子．激光

地区

  • 25个天津市
  • 1个北京市
共 26 条 记 录，以下是 1-10
刘玉岭
供职机构：河北工业大学
研究主题：化学机械抛光 CMP 抛光液 去除速率 ULSI
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
张楷亮
供职机构：天津理工大学
研究主题：化学机械抛光 抛光液 存储器 叠层结构 抛光速率
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
檀柏梅
供职机构：河北工业大学
研究主题：化学机械抛光 CMP 抛光液 ULSI 超大规模集成电路
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
李薇薇
供职机构：河北工业大学信息工程学院
研究主题：CMP ULSI 超大规模集成电路 化学机械抛光 化学机械全局平面化
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
张建新
供职机构：天津工业大学
研究主题：等离子喷涂 反应等离子喷涂 复合粉 涂层 TIO
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
刘效岩
供职机构：北京七星华创电子股份有限公司
研究主题：化学机械抛光 CMP 晶片 工艺技术 硅片表面
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
何彦刚
供职机构：河北工业大学
研究主题：抛光液 阻挡层 化学机械抛光 抛光表面 水溶液聚合
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
牛新环
供职机构：河北工业大学
研究主题：化学机械抛光 CMP 抛光液 去除速率 碱性抛光液
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
张西慧
供职机构：河北工业大学化工学院
研究主题：螯合剂 超大规模集成电路 硅溶胶 电化学 正极材料
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
张远祥
供职机构：河北工业大学
研究主题：臭氧 表面活性剂 硅片 硅衬底 微电子工艺
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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