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张东彪

作品数:1 被引量:0H指数:0
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主题

  • 2个视场
  • 2个头戴式
  • 2个显示设备
  • 2个径向对称
  • 2个光学
  • 2个光学系统
  • 2个非球面
  • 2个大视场
  • 1个调光
  • 1个调光系统
  • 1个圆台
  • 1个通孔
  • 1个透镜
  • 1个无级
  • 1个无级调光
  • 1个反射面

机构

  • 2个杭州照相机机...

地区

  • 2个浙江省
2 条 记 录,以下是 1-2
谢念
供职机构:杭州照相机机械研究所
研究主题:大视场 非球面 光学系统 径向对称 显示设备
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
喻玺
供职机构:杭州照相机机械研究所
研究主题:大视场 非球面 反射面 光学系统 径向对称
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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