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国家高技术研究发展计划(2008ZX02401)

作品数：1 被引量：1H指数：1
相关作者：闫志瑞索思卓库黎明周旗钢更多>>
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领域

  • 4个电子电信
  • 2个金属学及工艺
  • 2个机械工程
  • 1个经济管理
  • 1个动力工程及工...
  • 1个一般工业技术
  • 1个文化科学
  • 1个理学

主题

  • 4个数学模拟
  • 4个损伤层
  • 4个抛光
  • 4个平整度
  • 4个化学机械抛光
  • 4个机械抛光
  • 3个倒片
  • 3个氧化层
  • 3个体硅
  • 3个清洗工艺
  • 2个单晶
  • 2个倒角
  • 2个电路
  • 2个预氧化
  • 2个原生
  • 2个使用期
  • 2个损伤缺陷
  • 2个抛光垫
  • 2个抛光液
  • 2个热演化

机构

  • 4个北京有色金属...
  • 2个有色金属研究...

资助

  • 4个国家高技术研...
  • 3个国家科技重大...
  • 2个国际科技合作...
  • 1个国家自然科学...
  • 1个天津市自然科...
  • 1个河北省教育厅...
  • 1个河北省自然科...

传媒

  • 4个半导体技术
  • 4个微电子学
  • 3个稀有金属
  • 3个中国有色金属...
  • 3个中国有色金属...
  • 2个Journa...
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  • 1个物理学报
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  • 1个中国有色金属...
  • 1个新材料产业
  • 1个第十一届全国...
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  • 1个TFC’09...
  • 1个集成电路配套...

地区

  • 4个北京市
共 4 条 记 录，以下是 1-4
索思卓
供职机构：北京有色金属研究总院
研究主题：抛光 SI 硅片 300MM硅片 平整度
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
库黎明
供职机构：北京有色金属研究总院
研究主题：硅片 抛光 300MM硅片 平整度 硅片表面
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
闫志瑞
供职机构：北京有色金属研究总院
研究主题：硅片 硅片清洗 300MM硅片 硅片表面 清洗工艺
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
周旗钢
供职机构：北京有色金属研究总院
研究主题：硅单晶 硅片 300MM硅片 单晶硅 直拉硅单晶
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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