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国家高技术研究发展计划(2006AA04Z339)

作品数:4 被引量:9H指数:2
相关作者:赵永梅宁瑾赵万顺王雷孙国胜更多>>
相关机构:中国科学院更多>>
发文基金:国家自然科学基金国家高技术研究发展计划更多>>
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14 条 记 录,以下是 1-10
赵永梅
供职机构:中国科学院半导体研究所
研究主题:碳化硅 3C-SIC 衬底 刻蚀 碳化硅材料
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
赵万顺
供职机构:中国科学院半导体研究所
研究主题:碳化硅 3C-SIC 衬底 外延层 4H-SIC
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
孙国胜
供职机构:中国科学院半导体研究所
研究主题:碳化硅 3C-SIC 衬底 4H-SIC SIC
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
宁瑾
供职机构:中国科学院半导体研究所
研究主题:电极 牺牲层 锚点 MEMS 4H-SIC
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
王雷
供职机构:中国科学院半导体研究所
研究主题:碳化硅 3C-SIC 衬底 SIC 4H-SIC
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
李晋闽
供职机构:中国科学院半导体研究所
研究主题:氮化镓 发光二极管 衬底 多量子阱 GAN
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
王亮
供职机构:中国科学院半导体研究所
研究主题:碳化硅 碳化硅材料 半导体激光器 微通道 SIC
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
曾一平
供职机构:中国科学院半导体研究所
研究主题:分子束外延 衬底 碳化硅 氮化镓 缓冲层
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
刘兴昉
供职机构:中国科学院半导体研究所
研究主题:碳化硅 衬底 外延层 刻蚀 碳化硅材料
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
康中波
供职机构:中国科学院半导体研究所
研究主题:亚微米 RFMEMS RF_MEMS 滤波器 碳化硅
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
共2页<12>
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