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上海大学纳米科学与技术研究中心

作品数:343 被引量:966H指数:15
相关作者:张大卫宋绍雷王亚丽邹雄于乐更多>>
相关机构:江苏大学材料科学与工程学院上海工程技术大学化学化工学院上海电机学院机械学院更多>>
发文基金:国家自然科学基金上海市教育委员会重点学科基金上海市科委纳米专项基金更多>>
相关领域:一般工业技术化学工程理学环境科学与工程更多>>

文献类型

  • 198篇期刊文章
  • 142篇会议论文
  • 1篇标准
  • 1篇科技成果

领域

  • 112篇一般工业技术
  • 102篇化学工程
  • 66篇理学
  • 35篇环境科学与工...
  • 32篇电气工程
  • 22篇电子电信
  • 10篇金属学及工艺
  • 9篇机械工程
  • 4篇冶金工程
  • 4篇轻工技术与工...
  • 3篇石油与天然气...
  • 3篇医药卫生
  • 3篇文化科学
  • 2篇自动化与计算...
  • 2篇建筑科学
  • 2篇历史地理
  • 1篇经济管理
  • 1篇动力工程及工...
  • 1篇核科学技术

主题

  • 121篇纳米
  • 44篇催化
  • 35篇脱硝
  • 34篇性能研究
  • 30篇复合材料
  • 30篇复合材
  • 23篇压敏
  • 21篇陶瓷
  • 20篇改性
  • 19篇电阻
  • 19篇树脂
  • 19篇环氧
  • 18篇压敏电阻
  • 17篇脱硝催化剂
  • 17篇化学机械抛光
  • 17篇机械抛光
  • 16篇稀土
  • 15篇氧化锌
  • 15篇纳米材料
  • 15篇光催化

机构

  • 342篇上海大学
  • 10篇江苏大学
  • 5篇清华大学
  • 4篇里尔科技大学
  • 4篇上海电机学院
  • 4篇上海工程技术...
  • 4篇上海海洋大学
  • 4篇中国航空工业...
  • 3篇复旦大学
  • 3篇上海电力学院
  • 3篇中国科学院
  • 3篇中国电子科技...
  • 3篇深圳市欧姆阳...
  • 2篇北京科技大学
  • 2篇华东理工大学
  • 2篇上海交通大学
  • 2篇中国核动力研...
  • 2篇上海市力学在...
  • 2篇东莞上海大学...
  • 2篇上海上惠纳米...

作者

  • 179篇施利毅
  • 56篇张登松
  • 48篇甄强
  • 30篇杭建忠
  • 24篇方建慧
  • 23篇黄垒
  • 20篇丁鹏
  • 19篇李红蕊
  • 19篇李榕
  • 18篇孙小英
  • 18篇金鹿江
  • 18篇雷红
  • 17篇冯欣
  • 16篇任鑫
  • 16篇张剑平
  • 16篇徐东
  • 15篇袁帅
  • 15篇时雯
  • 14篇姚政
  • 14篇付继芳

传媒

  • 33篇功能材料
  • 9篇绝缘材料
  • 9篇上海大学学报...
  • 8篇电瓷避雷器
  • 7篇高分子材料科...
  • 7篇材料导报
  • 4篇陶瓷学报
  • 4篇耐火材料
  • 4篇复合材料学报
  • 4篇2005年上...
  • 4篇第九届全国环...
  • 3篇北京科技大学...
  • 3篇高分子学报
  • 3篇涂料工业
  • 3篇无机化学学报
  • 3篇无机材料学报
  • 3篇塑料工业
  • 3篇物理化学学报
  • 3篇化学进展
  • 3篇微纳电子技术

年份

  • 1篇2023
  • 1篇2022
  • 5篇2021
  • 5篇2020
  • 6篇2019
  • 20篇2018
  • 16篇2017
  • 19篇2016
  • 31篇2015
  • 30篇2014
  • 23篇2013
  • 17篇2012
  • 28篇2011
  • 30篇2010
  • 31篇2009
  • 26篇2008
  • 17篇2007
  • 12篇2006
  • 13篇2005
  • 6篇2004
343 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
液相法可控制备高分散金属氧化物纳米晶
袁帅赵尹王竹仪张美红施利毅方建慧
基于Perfluoropolyether/PDMS/PEG的双亲交联网络涂层制备及其在海洋防污中的应用
通过引入聚乙二醇,合成具有双亲性的共聚物并探讨其海洋防污性能及防污机制是最新的研究热点。目前的研究体系主要集中在侧基含PEG、氟化烷基或PDMS的双亲性嵌段聚合物,含氟侧链较长,可能对海洋环境造成危害。另外,涂层表面可控...
孙小英程章张帆
关键词:加成聚合交联
文献传递
化学机械抛光技术在超精加工中的应用
在电子制造行业,随着产品性能的不断提高,对表面质量的要求越来越高.硅片作为集成电路芯片的基础材料,其表面粗糙度和表面平整度成为影响集成电路刻蚀线宽的重要因素之一.在计算机硬盘技术中,磁头、磁盘的表面粗糙度、波纹度和纳米划...
雷红张鹏珍
关键词:化学机械抛光集成电路计算机硬盘
文献传递
锐钛矿TiO2/SiO2薄膜光催化降解甲苯气体的研究
下由TiO/SiO2溶胶采用喷涂法制备了TiO2/SiO2薄膜,研究了该薄膜对甲苯气体的光催化性能.XRD和TEM分析表明TiO2/SiO2溶胶为棒状锐钛矿结构,长轴15~25 nm,短轴5nm.光催化实验表明,该薄膜对...
张美红施利毅袁帅赵尹陈怡方建慧
关键词:THINANATASETOLUENEPHOTOCATALYSIS
燃煤电厂烟气脱硫石膏预处理工艺的研究进展被引量:1
2010年
综述了燃煤电厂脱硫石膏预处理的主要工艺和方法,系统分析了国内外脱硫石膏提纯、粉磨、干燥和煅烧工艺。干燥和煅烧工艺决定了脱硫石膏生产线的先进性,指出了各种预处理工艺之间的联系、处理的效果及存在的问题,总结了脱硫石膏预处理工艺的发展现状,并展望了发展趋势。
王钢领时雯杨廷廷冯欣施利毅
关键词:脱硫石膏提纯粉磨煅烧
工业用结构陶瓷的发展
甄强李榕
关键词:结构陶瓷固体废弃物利用高性能陶瓷
锂离子电池负极材料SnO_2的形貌调控合成被引量:6
2012年
SnO2是一种重要的宽禁带半导体材料,由于具有较高的理论容量,将其作为锂离子电池的负极材料有广阔的应用前景。材料的微观形貌对其物理化学性能有重要的影响作用,因此近年来大量的研究工作围绕SnO2的形貌调控合成开展。本文综述了作为锂离子电池负极材料SnO2的各种形貌的调控合成,如颗粒状、片状、一维、空壳、分级结构等,以及其形貌对电化学性能的影响,分析总结了各种形貌对其电化学性能的影响规律以及形貌调控的发展趋势。
王亚丽于晶李榕甄强
关键词:锂离子电池负极材料形貌
Y^(3+)掺杂ZnO压敏陶瓷的微结构和电性能研究被引量:2
2009年
采用两步烧结法制备了Y3+掺杂的(以Y(NO3)3·6H2O形式加入)ZnO压敏陶瓷,通过XRD、SEM和EDX系统研究了Y3+掺杂量对ZnO压敏陶瓷微结构和电性能的影响。结果表明:随着Y3+掺杂量的增加,电位梯度VT和非线性系数α提高,晶粒尺寸减小,施主浓度Nd和晶界态密度Ns降低,势垒宽度ω增大。当掺杂的x[Y(NO3)3·6H2O]为1.2%、烧结温度为1100℃时,ZnO压敏陶瓷电性能最好,其VT为675V/mm,α为63.9,漏电流IL为2.40μA。
巫欣欣张剑平徐东王艳珍施利毅
关键词:ZNO压敏陶瓷稀土硝酸盐微结构电性能
超细氧化铝抛光液的制备及其抛光特性研究被引量:13
2005年
化学机械抛光(CMP)技术广泛用于表面的超精加工,抛光液是CMP技术中的关键要素。本文制备了一种超细Al2O3抛光液,采用激光粒度仪、扫描电镜等对其进行了表征。进而研究了其在镍磷敷镀的硬盘基片CMP中的抛光特性。结果表明抛光液中Al2O3粒子用量、氧化剂用量均直接影响抛光后的表面质量及材料去除速率。借助对抛光后表面的原子力显微镜(AFM)、俄歇能谱以及X射线光电子能谱分析,对其CMP机理进行了推断。
雷红褚于良屠锡富丘海能方亮罗桂海
关键词:抛光液
MnOx/CeO2@CNTs核壳结构制备及低温NH3-SCR脱硝催化性能研究
本文围绕当前低温NH3-SCR脱硝技术发展中遇到的问题,将MnOx与CeO2同时均匀包覆在纳米碳管(CNTs)表面,获得高活性、高抗毒性、高比表面积的低温NH3-SCR脱硝催化剂.
张登松钱一磊高瑞华施利毅
关键词:核壳结构脱硝性能
文献传递
共35页<12345678910>
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