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陈铭勇

作品数：55 被引量：45H指数：4
供职机构：中国科学院光电技术研究所更多>>
发文基金：国家自然科学基金国家重点实验室开放基金国家教育部博士点基金更多>>
相关领域：电子电信机械工程理学自动化与计算机技术更多>>

合作作者

文献类型

  • 40篇专利
  • 14篇期刊文章
  • 1篇学位论文

领域

  • 10篇电子电信
  • 7篇机械工程
  • 6篇理学
  • 5篇自动化与计算...
  • 1篇经济管理
  • 1篇医药卫生
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 32篇光刻
  • 15篇投影光刻
  • 13篇物镜
  • 11篇光刻机
  • 10篇掩模
  • 10篇无掩模
  • 10篇光学
  • 7篇投影物镜
  • 7篇无掩模光刻
  • 6篇图像
  • 6篇莫尔条纹
  • 5篇照明
  • 5篇数字微镜
  • 5篇投影光刻机
  • 5篇偏振
  • 5篇工件台
  • 5篇光束
  • 5篇放大系统
  • 5篇成像器
  • 5篇成像器件

机构

  • 49篇中国科学院
  • 9篇四川大学
  • 3篇中国科学院研...
  • 2篇中国科学院大...
  • 1篇电子科技大学
  • 1篇陕西理工大学

作者

  • 55篇陈铭勇
  • 35篇胡松
  • 18篇李艳丽
  • 16篇严伟
  • 13篇王建
  • 13篇唐燕
  • 13篇赵立新
  • 13篇朱江平
  • 12篇何渝
  • 10篇杨勇
  • 8篇杜惊雷
  • 6篇马延琴
  • 6篇郭小伟
  • 4篇高洪涛
  • 4篇刘俊伯
  • 4篇陈昌龙
  • 4篇王楠
  • 4篇朱咸昌
  • 3篇周绍林
  • 3篇杜春雷

传媒

  • 4篇中国激光
  • 3篇光子学报
  • 2篇光电工程
  • 1篇激光与光电子...
  • 1篇光学学报
  • 1篇四川大学学报...
  • 1篇固体电子学研...
  • 1篇微细加工技术

年份

  • 3篇2016
  • 1篇2015
  • 5篇2014
  • 9篇2013
  • 16篇2012
  • 11篇2011
  • 1篇2010
  • 1篇2009
  • 1篇2008
  • 3篇2007
  • 4篇2006
共 55 条 记 录，以下是 1-10
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排序方式：
一种基于相移莫尔条纹的数字无掩模光刻对准装置
本发明是一种基于相移莫尔条纹的数字无掩模光刻对准装置，包括计算机、对准光源、数字微镜、光刻物镜、硅片、成像器件(CCD)、位移工件台、第一和第二分色分光镜，第一分色分光镜接收对准光反射到数字微反射镜结构上；计算机控制数字...
朱江平胡松唐燕陈铭勇唐路路何渝
文献传递
一种光刻式的3D打印机
本发明公开了一种光刻式的3D打印机，属于光刻技术领域，包括：光源系统、图像系统、投影系统、机械系统、电控系统五个子系统。系统获取打印物体的三维模型数据，并按高度方向分解成厚度统一的薄层后，用图像系统生成每一薄层的曝光图形...
马驰飞王楠陈昌龙高洪涛陈铭勇严伟胡松
文献传递
数字灰度光刻成像物镜设计
随着微机电系统(MEMS)、微光机电系统(MOEMS)等具有表面浮雕微结构的微纳器件的发展，寻求制作工艺简单、工作效率高、成本低、能产生连续三维面形的新的加工技术是现在微纳加工技术的发展方向之一。 现有的表面浮...
陈铭勇
文献传递
一种适用于无掩模光刻机的对准方法
本发明提出了一种适用于无掩模光刻机的对准方法。光电耦合成像器件通过工件台的平移来采集硅片上的两个及以上的对准标记，应用图像处理方法确定采集选择的对准标记相对载物台坐标的位置，由于采集到的标记图像相对硅片坐标的位置是已知的...
李艳丽胡松陈铭勇冯金花
文献传递
一种可变矩形窗调节机构
本发明是一种可变矩形窗调节机构，是采用四组位置探测器和驱动器构成伺服控制系统，分别驱动四块挡板，由四块挡板不同位置，形成大小任意变化的矩形窗。本发明提出一种闭合环形互联结构，即四块挡板两两互相连接，任意两挡板间可以相对移...
严伟胡松李艳丽杨勇王建陈铭勇
文献传递
一种用于投影光刻中焦面检测的光学系统
本发明是一种用于投影光刻中焦面检测的光学系统，检焦标记和投影成像系统位于照明系统和多次反射棱镜之间，被检测面位于多次反射棱镜和反射镜之间，检焦标记放大系统位于反射镜和探测器件之间；投影成像系统与照明系统匹配为照明检焦标记...
陈铭勇胡松李艳丽
文献传递
一种数字光栅无掩模光刻对准方法被引量：1
2012年
针对数字微反射镜装置(DMD)无掩模光刻系统,提出并研究了一种数字光栅无掩模光刻对准方法,将硅片的微位移放大显示在数字光栅与硅片物理光栅叠加产生的叠栅条纹中。建立了基于DMD的数字光栅无掩模光刻对准模型,设计了对准标记以及具体的实现方案,并对模型进行了数值仿真和初步的实验验证。结果表明,采用频率可变、图像干净、具有良好周期性结构的数字光栅代替传统的真实掩模光栅,真正实现了零掩模成本;并且采用变频率数字光栅可以扩大测量范围,减小位移测量误差。最终可以实现深亚微米的对准精度,满足目前无掩模光刻对准精度的要求。
唐路路胡松徐峰唐燕陈铭勇朱江平
关键词：光栅无掩模光刻
一种同轴检焦测量系统及其测量方法
本发明公开了一种同轴检焦测量系统及其测量方法。该测量系统包括参考光路，测量光路，投影物镜，探测模块；其基本过程如下：单色平面波经过分光棱镜分别到达投影物镜表面和反射镜表面，从反射镜表面反射的光作为参考光；另一部分光通过投...
李光陈铭勇唐燕朱江平
文献传递
一种投影光刻调焦的图像处理方法
本发明提供一种投影光刻调焦的图像处理方法，所述的方法首先根据列向求和投影的波峰，初步求得中线位置，进行粗调焦。采用波峰识别方法和图像细分算法对目标线条进行精确定位。进而求得目标线条与指定最佳焦面位置的离焦量，控制工件台运...
李艳丽严伟陈铭勇杨勇王建
一种适用于投影光刻系统的检焦系统及检焦方法
一种适用于投影光刻系统的检焦系统包括：光弹调制系统，对称成像系统，光栅调制系统，偏振调制系统以及光电探测系统，通过光栅以及偏振调制系统将被测面的偏移量转换成信号光的相对强弱变化，应用光弹调制系统来提高信噪比，从而获得高精...
陈旺富胡松严伟陈铭勇周绍林徐锋李金龙谢飞
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