肖保其
- 作品数：7 被引量：37H指数：2
- 供职机构：上海大学更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金上海市教育委员会重点学科基金上海市自然科学基金更多>>
- 相关领域：机械工程一般工业技术金属学及工艺更多>>
- 超细氧化铝表面改性及其抛光特性被引量：12
- 2007年
- 在化学机械抛光(CMP)中,为了提高氧化铝磨料分散稳定性和防止团聚,利用丙烯酰氯对超细氧化铝进行了表面改性,并用XPS、激光粒度仪、SEM对其进行表征,结果表明改性后的超细氧化铝分散性明显提高。研究了改性后超细氧化铝在数字光盘玻璃基片中的化学机械抛光特性,即外加压力、抛光时间和下盘转速对玻璃基片去除量的影响,并对其CMP机制进行了推断。结果表明,材料去除量随下盘转速、压力变化趋势相近,即随着压力的增加或下盘转速的提高,材料去除量先增大后减小;随抛光时间延长,抛光初期材料去除量增加较快,但在后段时间内去除量增加趋势趋于平缓。
- 卢海参雷红张泽芳肖保其
- 关键词：表面改性超细氧化铝
- 纳米氧化铈复合磨粒抛光液的制备方法
- 本发明公开了一种纳米氧化铈复合磨粒抛光液的制备方法，本发明的特点是以无机研磨粒子为内核，以氧化铈包覆层为外壳，形成核/壳型结构的纳米氧化铈复合磨粒抛光液，属高精密抛光材料制备工艺技术领域。本发明抛光液的制备过程是：先用均...
- 雷红肖保其褚凤灵严琼林布乃敬刘平
- 文献传递
- 纳米SiO2／CeO2复合磨粒的制备及其抛光特性研究被引量：25
- 2008年
- 以尿素[CO(NH2)2]、(NH4)2Ce(NO3)6和SiO2为原料,采用均相沉淀法制备1种新型纳米SiO2/CeO2复合磨粒,通过X射线衍射仪、X射线光电子能谱仪、飞行时间二次离子质谱仪和扫描电子显微镜等分析手段对其结构进行表征,并将SiO2/CeO2复合磨粒配置成抛光液在数字光盘玻璃基片上进行化学机械抛光试验.结果表明:所制备的SiO2/CeO2复合磨粒的平均晶粒度为19.64 nm,粒度分布均匀;经过1 h抛光后,玻璃基片的平均表面粗糙度(Ra)由1.644 nm降至0.971 nm;抛光后玻璃基片表面变得光滑、平坦,表面微观起伏较小.
- 肖保其雷红
- 氧化铝/氧化硅复合磨粒的制备方法
- 本发明涉及一种氧化铝/氧化硅复合磨粒的制备方法，属高精密抛光用磨料的制备工艺技术领域。本发明的制备方法是先制备α-Al<Sub>2</Sub>O<Sub>3</Sub>分散液：于去离子水中加入一定量的α-Al<Sub>2...
- 雷红张鹏珍卢海参张泽芳肖保其
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- 新型高性能纳米抛光材料及亚纳米级抛光技术研究
- 雷红褚于良金建华张鹏珍卢海参张泽芳肖保其
- 该课题开展了高性能纳米抛光材料及亚纳米级抛光技术研究。通过制备了一系列纳米磨粒及相应的纳米粒子抛光液，在进口SPEEDFAM工业抛光机上直接实验了各种纳米粒子抛光液的抛光性能，研究了计算机铝镁合金硬盘、玻璃光盘基片等的亚...
- 关键词：
- 关键词：抛光液化学机械抛光
- 氧化铝/氧化硅复合磨粒的制备方法
- 本发明涉及一种氧化铝/氧化硅复合磨粒的制备方法，属高精密抛光用磨料的制备工艺技术领域。本发明的制备方法是先制备α－Al<Sub>2</Sub>O<Sub>3</Sub>分散液：于去离子水中加入一定量的α－Al<Sub>2...
- 雷红张鹏珍卢海参张泽芳肖保其
- 文献传递
- 纳米氧化硅/氧化铈复合磨粒的制备及其抛光性能研究
- 随着先进电子技术的飞速发展，对产品加工精度和表面质量的要求越来越高。化学机械抛光(Chemical mechanical polishing，简称CMP)技术几乎是迄今唯一可以提供全局平面化的表面精加工技术，可广泛用于集...
- 肖保其
- 关键词：氧化硅氧化铈
- 文献传递
