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文献类型

  • 1篇国内会议论文

领域

  • 1篇电子电信
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 1篇溅射
  • 1篇P型
  • 1篇ZNMGO薄...
  • 1篇衬底
  • 1篇衬底温度
  • 1篇磁控
  • 1篇磁控溅射

机构

  • 1篇浙江大学

作者

  • 1篇马全保
  • 1篇胡少华
  • 1篇高国华
  • 1篇王敬蕊
  • 1篇卢洋藩
  • 1篇叶志镇
  • 1篇简中祥
  • 1篇赵炳辉

传媒

  • 1篇第十届固体薄...

年份

  • 1篇2006
1 条 记 录,以下是 1-1
排序方式:
Ga-N共掺方法生长p型ZnMgO薄膜及其特性研究
本文采用直流反应磁控溅射技术,,利用Ga-N共掺方法,在N2O+O2气氛下、玻璃衬底上制备了ZnMgO薄膜。通过不断优化N2O/O2流量比值和衬底温度,制得了p型ZnMgO薄膜。Hall实验,X射线衍射(XRD),场发射...
胡少华叶志镇高国华简中祥王敬蕊马全保卢洋藩赵炳辉
关键词:磁控溅射衬底温度
文献传递
共1页<1>
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