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刘松

作品数:5 被引量:6H指数:2
供职机构:复旦大学更多>>
发文基金:国防科技技术预先研究基金更多>>
相关领域:电子电信理学化学工程更多>>

文献类型

  • 5篇中文期刊文章

领域

  • 3篇电子电信
  • 1篇化学工程
  • 1篇理学

主题

  • 2篇电导
  • 2篇电导率
  • 2篇砷化镓
  • 2篇光致
  • 2篇光致发光
  • 2篇发光
  • 2篇半绝缘
  • 1篇电介质特性
  • 1篇电子元
  • 1篇电子元器件
  • 1篇氧化铝
  • 1篇元器件
  • 1篇陶瓷
  • 1篇绝缘体
  • 1篇光荧光
  • 1篇光致发光研究
  • 1篇发光研究
  • 1篇封装
  • 1篇辐照
  • 1篇半导体

机构

  • 5篇复旦大学

作者

  • 5篇刘松
  • 5篇宗祥福
  • 3篇翁渝民
  • 2篇神承复
  • 2篇陈一
  • 1篇顾春林
  • 1篇顾春林
  • 1篇张炽昌
  • 1篇陈骏逸

传媒

  • 1篇半导体技术
  • 1篇复旦学报(自...
  • 1篇红外与毫米波...
  • 1篇材料研究学报
  • 1篇应用科学学报

年份

  • 2篇1998
  • 3篇1992
5 条 记 录,以下是 1-5
排序方式:
半绝缘砷化镓中0.77eV荧光带的研究
1992年
首次观察到与砷反位缺陷As_(Ga)有关的、室温下的0.77 eV光致发光(PL)带.作者发现,电子辐照不能产生EL2,而与As_(Ga).有关的PL带并不具有光猝灭效应.在非平衡态历程中,As_(Ga)与EL2间未发现有能量交换现象:EL2光猝灭时,并不导致As_(Ga).所对应的0.77 eV带强度变化;电子辐照产生As_(Ga),也不以EL2浓度的变化为代价.As_(Ga)缺陷是带边发射的湮灭中心.
翁渝民刘松宗祥福
关键词:光致发光半绝缘体砷化镓
扫描光荧光表征半导体材料特性被引量:1
1992年
报道了一个自制的采用计算机控制的自动光荧光(PL)扫描系统.该系统可用于形貌半导体晶片或外延层的PL强度分布,尺寸可大到3英寸,样品可以是Si,GaAs,InP等.它可以用来探测材料中的缺陷及浅能级杂质,显示其分布.PL对于杂质识别和缺陷分布的形貌特别灵敏.文中列举和讨论了用本PL扫描系统对Si和GaAs所获得的一些光谱和形貌的信息.实验证明该系统可用作为一个简单、无接触然而却是灵敏的表征手段,可用于评估半导体基片近表面层的均匀性,也适用于器件表征.
宗祥福翁渝民刘松秦曦
关键词:光荧光半导体
GaAs中缺陷的光致发光研究被引量:2
1992年
用光致发光技术研究了未掺杂半绝缘砷化镓中的深能级缺陷,观察到一系列与其有关的光致发光.其中0.69eV发射带是源自EL2的辐射复合发光,0.77eV带是由导带至As_(Ga)施主能级的跃迁.认为1.447eV和1.32eV荧光带系分别对应于与Ga_(As)的两个电子态(38meV和203meV)有关的辐射复合.
翁渝民刘松宗祥福
关键词:半绝缘砷化镓光致发光
九五铝瓷的辐照失效研究被引量:2
1998年
作为电子元器件封装材料的九五铝瓷,在电子辐照、高温及高电场条件下,观察到电导率会持续增加直至击穿这一现象。样品在辐照前后,电介质特性发生了变化。用傅里叶红外光谱法和TEM剖析,观察了材料的辐照损伤,对辐照失效机理给出了初步的解释。
刘松顾春林张炽昌陈骏逸陈一神承复宗祥福
关键词:电导率电子元器件封装
Al_2O_3陶瓷的电子辐照效应被引量:1
1998年
作为电子元器件封装材料的α-Al2O3陶瓷基片,在电子辐照、高温及高电场下,其电导率会持续增加直至击穿.电子辐照后,其电介质特性也发生了变化.
陈骏逸刘松张炽昌顾春林陈一神承复宗祥福
关键词:电导率电介质特性氧化铝陶瓷
共1页<1>
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