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刘文安
作品数:
13
被引量:5
H指数:2
供职机构:
北京大学
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发文基金:
国家自然科学基金
国家重点基础研究发展计划
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相关领域:
电子电信
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合作作者
张兴
北京大学微电子学研究院
黄如
北京大学微电子学研究院
刘金华
北京大学
王阳元
北京大学
杨胜齐
北京大学
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机构
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北京大学
作者
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刘文安
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黄如
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张兴
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刘金华
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王文平
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王阳元
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2004
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2003
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垂直沟道场效应晶体管及制备方法
本发明涉及一种具有垂直沟道结构的场效应晶体管,及它的制备方法。本发明在现有垂直沟道场效应晶体管的漏端增加LDD结构,在源端形成Halo结构;即,对于n型管,在漏端与沟道之间增加一个n<Sup>-</Sup>区,在源端与沟...
刘金华
刘文安
黄如
张兴
文献传递
平面亚0.1μm器件结构和工艺研究
该文重点研究了纳米级栅线务(或者沟道区)和超浅PN结制作这两个当前超短沟器件研制中最困难的领域.侧墙图形转移是目前最成功的制作超细栅线务(超细沟道)的技术,对设备要求比较低,潜力巨大.该文重点研究了单侧墙图形转移实现纳米...
刘文安
关键词:
侧墙
亚100纳米MOS半导体器件技术探讨
被引量:3
2003年
尽管在过去40年中,IC行业的基本元件——MOS管和基本的电路拓扑逻辑——CMOS都没有根本性的革新,但可以相信,在今后15年内,MOS和CMOS仍然是工业界的主流。在可以预见的很长的一段时间内,没有任何新器件能够对MOS管的地位形成真正的挑战。
刘文安
黄如
张兴
关键词:
栅介质
载流子迁移率
垂直沟道场效应晶体管及制备方法
本发明涉及一种多晶硅作源端的具有垂直沟道结构的场效应晶体管,及它的制备方法。本发明的垂直沟道场效应晶体管,其特征在于用多晶硅作器件的源端。有效的节省了有源区的面积,更好的控制了器件的沟道长度,工艺中降低了硅台刻蚀的高度,...
刘金华
刘文安
黄如
张兴
文献传递
一种组合栅场效应晶体管
本发明公开了一种场效应晶体管,目的是提供一种低静态功耗、低关态电流、高电流开关比的场效应晶体管器件。本发明的技术方案为:一种场效应晶体管,包括栅、源端、漏端和衬底在内的场效应晶体管本体,所述源端和漏端设于所述衬底的两端,...
杨胜齐
刘文安
黄如
王文平
张兴
王阳元
文献传递
利用侧墙和多晶硅固相扩散制作纳米CMOS器件的方法
本发明提供了一种利用侧墙和多晶硅固相扩散制作纳米CMOS器件的方法,属于超大规模集成电路技术领域。该方法依次包括以下步骤:设计单元版图;器件隔离、栅氧化和栅多晶硅淀积,此步骤之前根据需要制作阱;利用侧墙转移实现栅线条;淀...
刘文安
刘金华
黄如
张兴
文献传递
电学感应源漏扩展区MOS晶体管及其制作方法
本发明提供了一种感应源漏扩展区MOS晶体管结构及其制备方法。该结构采用倒置多晶硅侧墙充当感应源漏扩展区栅极;感应源漏扩展区是利用倒置多晶硅电学感应产生,同时沟道区利用倒置多晶硅侧墙形成;栅电极和倒置多晶硅侧墙之间有二氧化...
刘文安
刘金华
黄如
张兴
文献传递
垂直沟道场效应晶体管及制备方法
本发明涉及一种多晶硅作源端的具有垂直沟道结构的场效应晶体管,及它的制备方法。本发明的垂直沟道场效应晶体管,其特征在于用多晶硅作器件的源端。有效的节省了有源区的面积,更好的控制了器件的沟道长度,工艺中降低了硅台刻蚀的高度,...
刘金华
刘文安
黄如
张兴
文献传递
垂直沟道场效应晶体管及制备方法
本发明涉及一种具有垂直沟道结构的场效应晶体管,及它的制备方法。本发明在现有垂直沟道场效应晶体管的漏端增加LDD结构,在源端形成Halo结构;即,对于n型管,在漏端与沟道之间增加一个n<Sup>-</Sup>区,在源端与沟...
刘金华
刘文安
黄如
张兴
文献传递
电学感应源漏扩展区MOS晶体管及其制作方法
本发明提供了一种感应源漏扩展区MOS晶体管结构及其制备方法。该结构采用倒置多晶硅侧墙充当感应源漏扩展区栅极;感应源漏扩展区是利用倒置多晶硅电学感应产生,同时沟道区利用倒置多晶硅侧墙形成;栅电极和倒置多晶硅侧墙之间有二氧化...
刘文安
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