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吴亮

作品数：11 被引量：54H指数：4
供职机构：上海交通大学材料科学与工程学院金属基复合材料国家重点实验室更多>>
发文基金：中国工程物理研究院基金更多>>
相关领域：理学金属学及工艺电子电信化学工程更多>>

合作作者

文献类型

  • 11篇中文期刊文章

领域

  • 10篇理学
  • 1篇化学工程
  • 1篇金属学及工艺
  • 1篇电子电信

主题

  • 6篇微结构
  • 6篇纳米
  • 5篇多层膜
  • 5篇溅射
  • 4篇纳米多层膜
  • 3篇微结构研究
  • 3篇钨
  • 3篇磁控
  • 3篇磁控溅射
  • 2篇氮化
  • 2篇氮化铝
  • 2篇氮化钛
  • 2篇调制结构
  • 2篇力学性能
  • 2篇纳米多层薄膜
  • 2篇反应溅射
  • 2篇SIC
  • 2篇力学性
  • 1篇电性能
  • 1篇碳化硅

机构

  • 11篇上海交通大学
  • 5篇中国科学院上...
  • 1篇中国工程物理...

作者

  • 11篇吴亮
  • 11篇李戈扬
  • 10篇李鹏兴
  • 9篇张流强
  • 6篇施晓蓉
  • 3篇许俊华
  • 2篇顾明元
  • 1篇张惠娟
  • 1篇戎咏华
  • 1篇郑永铭
  • 1篇郑永铭

传媒

  • 3篇上海交通大学...
  • 2篇功能材料
  • 2篇电子显微学报
  • 2篇材料工程
  • 1篇真空科学与技...
  • 1篇微细加工技术

年份

  • 6篇1999
  • 2篇1998
  • 3篇1997
共 11 条 记 录，以下是 1-10
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排序方式：
W/Mo超晶格薄膜的微结构研究被引量：4
1999年
纳米多层膜因常出现物理或力学性能的异常而成为薄膜研究的热点之一。采用ＸＲＤ和ＴＥＭ技术研究了Ｗ／Ｍｏ纳米多层膜微结构。结果表明，Ｗ和Ｍｏ由于同为体心立方结构，且晶格常数相近，由它们交互重叠形成的纳米多层膜具有柱状晶穿过调制界面外延生长的结构特征，形成多晶超晶格结构。
李戈扬张流强许俊华吴亮吴亮顾明元
关键词：多层膜超晶格钨钼XRD
TiN/AlN纳米多层膜的研究被引量：18
1999年
采用反应溅射法制备了ＴｉＮ／ＡｌＮ 纳米多层膜， 并通过ＸＲＤ， ＨＲＥＭ 和显微硬度计对多层膜的调制结构和力学性能进行了研究。结果表明： ＴｉＮ／ＡｌＮ 纳米多层膜有较好的调制结构。小调制周期时， ＡｌＮ 调制层以ＦＣＣ 结构在ＴｉＮ 调制层上外延生长。调制周期增大，ＡｌＮ 调制层中出现六方晶型。ＴｉＮ／ＡｌＮ 的显微硬度随调制周期的减小单调上升， 并在调制周期＝ ２ｎｍ 时达到最高值ＨＫ３２９３。硬度的增高极有可能是小调制周期时立方ＡｌＮ
李戈扬施晓蓉吴亮许俊华戎咏华张惠娟
关键词：纳米多层薄膜反应溅射调制结构
金属-绝缘体复合薄膜中的纳米颗粒形态控制被引量：3
1997年
本文采用多靶磁控溅射仪旋转基片的方法，利用红外灯管加热基片，制备了不同基片温度的Ａｇ－ＳｉＯ２复合薄膜（１５．０ａｔ％Ｓｉ）。采用ＴＥＭ分析了薄膜的微观结构并测定了薄膜的电阻率。研究结果表明：通过改变基片温度，可以控制Ａｇ－ＳｉＯ２复合薄膜中Ａｇ粒子的形态；当基片温度高于３００℃时，复合膜中孤立的Ａｇ颗粒直径为１０～１００ｎｍ；薄膜的电阻率亦可通过基片加热在１０２～１０６μΩ·ｃｍ范围内改变。
李戈扬吴亮张流强李鹏兴
关键词：微结构
W/SiC纳米多层膜界面微结构研究(英文)被引量：1
1998年
本文采用双靶交替磁控溅射方法制备了Ｗ／ＳｉＣ纳米多层膜，并用高分辨电镜对多层膜截面形貌及界面微结构进行了分析。结果表明：Ｗ／ＳｉＣ纳米多层膜具有良好的调制结构，其中Ｗ为多晶，ＳｉＣ为非晶，且Ｗ晶粒在垂直于膜面的方向上的长大受到调制周期的限制。Ｗ与ＳｉＣ形成完全非共格界面，该界面具有宏观平直而微观粗糙的特点。在界面上存在一个模糊的过渡层，该过渡层由Ｗ与ＳｉＣ的成份混合区和Ｗ的结构过渡区构成。
李戈扬张流强吴亮施晓蓉施晓蓉
关键词：钨碳化硅纳米多层膜微结构
Cu-TiN复合薄膜的微结构与电性能被引量：3
1999年
本文采用ＳＥＭ、ＥＤＡＸ和ＴＥＭ等手段研究了多靶磁控溅射制备的Ｃｕ－ＴｉＮ复合薄膜，并测定了薄膜的电阻率。研究表明：复合薄膜的微结构随ＴｉＮ含量及基片温度发生明显变化，其电阻率在基片温度约为２００℃时取得极小值，约为室温沉积薄膜电阻率的１／４。
李戈扬吴亮施晓蓉张流强李鹏兴
关键词：磁控溅射微结构电性能
TiN/AlN 纳米多层膜的制备及力学性能被引量：8
1999年
采用多靶反应磁控溅射法制备了ＴｉＮ／ＡｌＮ纳米多层膜，并通过ＸＲＤ、ＴＥＭ和显微硬度计对多层膜的调制结构和力学性能进行了研究．结果表明，反应磁控溅射法制得的纳米多层膜调制界面平直清晰；薄膜的硬度随其调制周期Λ的减小而单调增加，硬度在Λ＝２ｎｍ时达到最大值ＨＫ３２．９３ＧＰａ．
李戈扬施晓蓉张流强张流强吴亮
关键词：纳米多层薄膜力学性能氮化钛氮化铝
TiN/AlN 纳米混合膜的微结构及力学性能被引量：10
1999年
通过双靶轮流反应溅射的工艺方法制备了ＴｉＮ／ＡｌＮ纳米混合膜．采用ＸＲＤ衍射、ＴＥＭ和显微硬度等测试方法对ＴｉＮ／ＡｌＮ纳米混合膜的微结构和力学性能进行了研究．结果表明，ＴｉＮ／ＡｌＮ纳米混合膜的晶粒大小为１０～２０ｎｍ；薄膜总体表现出硬度增强效果，在ＴｉＮ∶ＡｌＮ（体积比）≈１∶１时，薄膜硬度获得极大值ＨＫ３２．２５ＧＰａ．
李戈扬施晓蓉辛挺辉吴亮李鹏兴
关键词：力学性能氮化钛氮化铝微结构
W/SiC纳米多层膜的制备及表征
1999年
采用多靶磁控溅射制备了 Ｗ／ＳｉＣ纳米多层膜。并用 ＸＲＤ和 ＴＥＭ研究了 Ｗ／ＳｉＣ纳米多层膜的微结构。研究表明，Ｗ／ＳｉＣ纳米多层膜的调制结构界面平直、清晰、周期性好；ＳｉＣ调制层为非晶态，Ｗ调制层在大调制周期为纳米晶，并随调制周期减小逐渐转变为非晶态。
李戈扬辛挺辉吴亮李鹏兴张流强
关键词：纳米多层膜调制结构钨
W/Mo纳米多层膜的生长结构研究
1998年
纳米多层膜由两种材料按一定的调制周期交替叠加形成。在许多纳米多层膜体系中，当调制周期减小到若干纳米时，将产生物理性能或力学性能的异常变化，这种性能异常的产生不仅取决于组成多层膜的两种材料的性质，更取决于多层膜的调制层，尤其是调制界面的微结构。本文采用...
李戈扬张流强许俊华吴亮李鹏兴顾明元
关键词：TEM纳米多层膜
Ag-SiO_2纳米复合薄膜微结构研究被引量：2
1997年
本文采用基片可旋转并利用红外灯管加热基片多靶磁控溅射台的制备了不同成分及基片温度的Ag～Sio2复合薄膜。采用XRD、TEM、SEM等手段分析了薄膜的微观组织结构，并测定了薄膜的电阻率。研究结果表明：复合薄膜的微结构由多晶富Ag区和细密的Ag晶体和非晶SiO2混合物组成；室温下随SiO2含量的增加．薄膜中金属Ag呈网状分布．晶粒细化，电阻率上升；随基片温度的升高．复合薄膜中银晶体最终聚集成孤立的纳米颗粒；与微结构相对应，薄膜的电阻率可在大范围（102～106μΩcm）内变化。
李戈扬吴亮张流强施晓蓉李鹏兴
关键词：磁控溅射微结构
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