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施晓蓉
作品数:
10
被引量:46
H指数:3
供职机构:
上海交通大学材料科学与工程学院金属基复合材料国家重点实验室
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发文基金:
中国工程物理研究院基金
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相关领域:
理学
电子电信
金属学及工艺
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合作作者
李戈扬
交通大学
李鹏兴
中国科学院上海冶金研究所上海微...
张流强
中国科学院上海冶金研究所上海微...
吴亮
上海交通大学材料科学与工程学院...
许俊华
中国科学院上海冶金研究所上海微...
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机构
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上海交通大学
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交通大学
作者
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施晓蓉
10篇
李戈扬
8篇
李鹏兴
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张流强
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吴亮
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许俊华
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漆玄
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张惠娟
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微细加工技术
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材料工程
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第十次全国电...
年份
4篇
1999
3篇
1998
1篇
1997
2篇
1996
共
10
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Ag-SiO_2纳米复合薄膜微结构研究
被引量:2
1997年
本文采用基片可旋转并利用红外灯管加热基片多靶磁控溅射台的制备了不同成分及基片温度的Ag~Sio2复合薄膜。采用XRD、TEM、SEM等手段分析了薄膜的微观组织结构,并测定了薄膜的电阻率。研究结果表明:复合薄膜的微结构由多晶富Ag区和细密的Ag晶体和非晶SiO2混合物组成;室温下随SiO2含量的增加.薄膜中金属Ag呈网状分布.晶粒细化,电阻率上升;随基片温度的升高.复合薄膜中银晶体最终聚集成孤立的纳米颗粒;与微结构相对应,薄膜的电阻率可在大范围(102~106μΩcm)内变化。
李戈扬
吴亮
张流强
施晓蓉
李鹏兴
关键词:
磁控溅射
微结构
W/SiC纳米多层膜界面微结构研究(英文)
被引量:1
1998年
本文采用双靶交替磁控溅射方法制备了W/SiC纳米多层膜,并用高分辨电镜对多层膜截面形貌及界面微结构进行了分析。结果表明:W/SiC纳米多层膜具有良好的调制结构,其中W为多晶,SiC为非晶,且W晶粒在垂直于膜面的方向上的长大受到调制周期的限制。W与SiC形成完全非共格界面,该界面具有宏观平直而微观粗糙的特点。在界面上存在一个模糊的过渡层,该过渡层由W与SiC的成份混合区和W的结构过渡区构成。
李戈扬
张流强
吴亮
施晓蓉
施晓蓉
关键词:
钨
碳化硅
纳米多层膜
微结构
Cu-TiN复合薄膜的微结构与电性能
被引量:3
1999年
本文采用SEM、EDAX和TEM等手段研究了多靶磁控溅射制备的Cu-TiN复合薄膜,并测定了薄膜的电阻率。研究表明:复合薄膜的微结构随TiN含量及基片温度发生明显变化,其电阻率在基片温度约为200℃时取得极小值,约为室温沉积薄膜电阻率的1/4。
李戈扬
吴亮
施晓蓉
张流强
李鹏兴
关键词:
磁控溅射
微结构
电性能
采用X射线测量硬质薄膜宏观内应力的拉伸法
被引量:3
1996年
本文讨论了一种采用拉伸释放薄膜宏观内应力的X射线应力测量方法,并用此方法测量了含有梯度过渡层的TiN薄膜的内应力。
李戈扬
漆玄
施晓蓉
张流强
李鹏兴
关键词:
硬质薄膜
X射线
内应力
拉伸法
TiN/AlN纳米多层膜的研究
被引量:18
1999年
采用反应溅射法制备了TiN/AlN 纳米多层膜, 并通过XRD, HREM 和显微硬度计对多层膜的调制结构和力学性能进行了研究。结果表明: TiN/AlN 纳米多层膜有较好的调制结构。小调制周期时, AlN 调制层以FCC 结构在TiN 调制层上外延生长。调制周期增大,AlN 调制层中出现六方晶型。TiN/AlN 的显微硬度随调制周期的减小单调上升, 并在调制周期= 2nm 时达到最高值HK3293。硬度的增高极有可能是小调制周期时立方AlN
李戈扬
施晓蓉
吴亮
许俊华
戎咏华
张惠娟
关键词:
纳米多层薄膜
反应溅射
调制结构
TiN/AlN纳米多层膜的调制结构研究
被引量:1
1998年
纳米多层膜具有多种物理性能和力学性能的异常效应,其中超模量、超硬度效应为近年来的研究热点之一。本文采用高分辨透射电子显微镜(HREM)研究了TiN/AlN纳米多层膜的微结构并对其力学性能的变化给予解释。TiN/AlN纳米多层膜采用反应溅射法在日本产A...
李戈扬
施晓蓉
张流强
许俊华
李鹏兴
顾明元
关键词:
纳米
多层膜
调制结构
HREM
界面梯度对TiN/不锈钢涂层应力的影响
被引量:2
1996年
气相沉积表面涂层在科学技术各领域得到广泛应用,然而,由于涂层与基体在化学和物理性质上的差异,使得涂层与基体在界面两侧产生结构和性能上的突变,影响了涂层功能的充分发挥。为此,采用多靶磁控溅射技术制备了具有梯度过渡层的TiN/不锈钢涂层,并研究了梯度层对涂层内应力的影响。研究结果表明:采用多靶磁控溅射技术,分别控制各靶的功率,能够精确控制梯度层的成份变化,制备不同厚度的镀层;应力分析显示,随梯度过渡层厚度的增加,涂层的内应力明显降低。
李戈扬
漆玄
施晓蓉
李鹏兴
张流强
郑永铭
关键词:
磁控溅射
涂层
内应力
不锈钢
氮化钛
TiN/AlN 纳米多层膜的制备及力学性能
被引量:8
1999年
采用多靶反应磁控溅射法制备了TiN/AlN纳米多层膜,并通过XRD、TEM和显微硬度计对多层膜的调制结构和力学性能进行了研究.结果表明,反应磁控溅射法制得的纳米多层膜调制界面平直清晰;薄膜的硬度随其调制周期Λ的减小而单调增加,硬度在Λ=2nm时达到最大值HK32.93GPa.
李戈扬
施晓蓉
张流强
张流强
吴亮
关键词:
纳米多层薄膜
力学性能
氮化钛
氮化铝
TiN/AlN 纳米混合膜的微结构及力学性能
被引量:10
1999年
通过双靶轮流反应溅射的工艺方法制备了TiN/AlN纳米混合膜.采用XRD衍射、TEM和显微硬度等测试方法对TiN/AlN纳米混合膜的微结构和力学性能进行了研究.结果表明,TiN/AlN纳米混合膜的晶粒大小为10~20nm;薄膜总体表现出硬度增强效果,在TiN∶AlN(体积比)≈1∶1时,薄膜硬度获得极大值HK32.25GPa.
李戈扬
施晓蓉
辛挺辉
吴亮
李鹏兴
关键词:
力学性能
氮化钛
氮化铝
微结构
TiN/AIN纳米多层膜的调制结构研究
李戈扬
施晓蓉
关键词:
纳米多层膜
调制结构
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