刘嘉
- 作品数：13 被引量：14H指数：1
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- 相关领域：电气工程理学电子电信轻工技术与工程更多>>
- 一种纳米硅薄膜太阳能电池椭园偏振光谱实时监控制备方法
- 本发明一种纳米硅薄膜太阳能电池椭园偏振光谱实时监控制备方法，它有七大步骤。采用化学法对单晶硅片进行各向异性腐蚀，形成金字塔状的绒面硅片衬底；采用等离子体增强化学气相沉法制备晶态含量在50±5％之间，晶态峰在502-518...
- 张维佳马强宋登元刘嘉张雷马晓波范志强马登浩
- 文献传递
- 高电导率P型纳米硅薄膜的制备及其在薄膜太阳电池中的应用
- 采用射频等离子体增强化学气相沉积(RF-PECVD)方法,以高氢稀释的硅烷(SiH4)为反应气体,硼烷(B2H6)为掺杂气体,氢气(H2)为稀释气体,在玻璃衬底上制备出掺硼的氢化纳米硅(nc-Si:H)薄膜,分别研究了衬...
- 杨东杰张维佳林军Jean Jacques HAVUGIMANA刘嘉孙月峰马强
- 关键词：RF-PECVD掺硼太阳电池
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- 高电导率P型纳米硅薄膜的制备及其在薄膜太阳电池中的应用
- 采用射频等离子体增强化学气相沉积(RF-PECVD)方法,以高氢稀释的硅烷(SiH4)为反应气体,硼烷(B2H6)为掺杂气体,氢气(H2)为稀释气体,在玻璃衬底上制备出掺硼的氢化纳米硅(nc-Si:H)薄膜,分别研究了衬...
- 杨东杰张维佳林军Jean Jacques HAVUGIMANA刘嘉孙月峰马强
- 关键词：化学气相沉积法光电性能太阳电池
- 文献传递
- 一种等离子体增强型化学气相沉积真空设备
- 一种等离子体增强型化学气相沉积真空设备，它是一种形状、构造相同的连续性结构，该结构是由左法兰、主真空腔室、隔离板、高真空密封阀门装置、副真空腔室、右法兰、大密封板从左到右依序排列而组成，左法兰和主真空腔室之间采用氩弧焊连...
- 张维佳刘嘉马强孙月峰张冷吴然嵩
- 一种等离子体增强型化学气相沉积真空设备
- 一种等离子体增强型化学气相沉积真空设备，它是一种形状、构造相同的连续性结构，该结构是由左法兰、主真空腔室、隔离板、高真空密封阀门装置、副真空腔室、右法兰、大密封板从左到右依序排列而组成，左法兰和主真空腔室之间采用氩弧焊连...
- 张维佳刘嘉马强孙月峰张冷吴然嵩
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- 高品质AZO制备及其在硅基薄膜太阳电池中的应用
- 以自制的高电导、高致密度的掺铝氧化锌陶瓷靶为靶材,采用直流磁控溅射技术,在玻璃衬底上制备了ZnO:Al(AZO)薄膜.研究了衬底温度对AZO薄膜晶体结构、电学和光学性能的影响,并成功将其应用于纳米硅薄膜太阳电池的透明导电...
- 林军张维佳杨东杰Jean Jacques HAVUGIM A孙月峰刘嘉马强
- 关键词：纳米硅薄膜衬底温度光电性能
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- 一种纳米硅薄膜太阳能电池椭圆偏振光谱实时监控制备方法
- 本发明一种纳米硅薄膜太阳能电池椭圆偏振光谱实时监控制备方法，它有七大步骤。采用化学法对单晶硅片进行各向异性腐蚀，形成金字塔状的绒面硅片衬底；采用等离子体增强化学气相沉法制备晶态含量在50±5％之间，晶态峰在502‑518...
- 张维佳马强宋登元刘嘉张雷马晓波范志强马登浩
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- 铜铟镓硒薄膜的真空制备工艺及靶材研究现状被引量：14
- 2013年
- 阐述了两种真空法制备铜铟镓硒(CIGS)薄膜的工艺原理和工艺过程,比较和分析了两工艺的优缺点;介绍了溅射靶材的熔融铸造法和粉末冶金法,列举了靶材制备中所需的温度、压强、保温时间等参数。最后分析认为,用均匀细小的黄铜矿相CIGS粉末压制烧结成四元靶材,经溅射成膜后退火处理,可制备出优异的CIGS薄膜,具有更广阔的应用前景。
- 张冷张维佳宋登元张辉张雷马强刘嘉吴然嵩马晓波
- 关键词：CIGS真空
- 一种等离子体增强型化学气相沉积真空设备
- 一种等离子体增强型化学气相沉积真空设备，它是一种形状、构造相同的连续性结构，该结构是由左法兰、主真空腔室、隔离板、高真空密封阀门装置、副真空腔室、右法兰、大密封板从左到右依序排列而组成，左法兰和主真空腔室之间采用氩弧焊连...
- 张维佳刘嘉马强孙月峰张冷吴然嵩
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- 一种纳米硅薄膜太阳能电池椭园偏振光实时监控制备方法
- 一种纳米硅薄膜太阳能电池椭园偏振光实时监控制备方法，它有五大步骤：一、采用湿化学法对单晶硅片进行各向异性腐蚀，获得金字塔状的绒面硅片衬底；二、采用热蒸发方法或磁控溅射方法制备纳米硅薄膜太阳能电池的背电极；三：采用等离子体...
- 张维佳刘嘉马强孙月峰张冷吴然嵩
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