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吴克智

作品数：1 被引量：0H指数：0
供职机构：浙江大学信息科学与工程学院更多>>
相关领域：电子电信更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇中文科技成果

领域

  • 1篇电子电信

主题

  • 1篇电路
  • 1篇电路版图
  • 1篇亚微米
  • 1篇深亚微米
  • 1篇微米
  • 1篇可制造性
  • 1篇集成电路
  • 1篇集成电路版图
  • 1篇版图
  • 1篇超深亚微米
  • 1篇成像

机构

  • 1篇浙江大学

作者

  • 1篇胡承敏
  • 1篇沈珊瑚
  • 1篇王国雄
  • 1篇陈晔
  • 1篇史峥
  • 1篇章庆
  • 1篇吴克智
  • 1篇谢春蕾
  • 1篇严晓浪
  • 1篇陈志锦

年份

  • 1篇2007
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
超深亚微米集成电路版图可制造性校正和验证技术
严晓浪史峥王国雄陈志锦马玥陈晔沈珊瑚杨祎巍谢春蕾胡承敏吴克智章庆
从超深亚微米到纳米级的集成电路生产普遍采用了亚波长光刻技术，以当前65nm工艺为例，光刻机采用193nm的光源波长，而所制造产品的特征尺寸远不到光源波长的一半。亚波长光刻的采用要求在集成电路掩模设计中必须使用基于光学校正...
关键词：
关键词：集成电路版图成像
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