陆晓曼
- 作品数：4 被引量：9H指数：2
- 供职机构：四川大学物理科学与技术学院原子与分子物理研究所更多>>
- 发文基金：中国工程物理研究院科技基金中国工程物理研究院基金更多>>
- 相关领域：电子电信核科学技术经济管理更多>>
- Ar等离子体清洗Cu箔靶的实验研究
- 2008年
- 极薄的铜箔是惯性约束聚变中常用的靶材之一，要求密度达到晶体理论密度、表面洁净、粗糙度低、润湿性好，用常规方法清洗厚度在2μm及以下的铜箔，难以达到要求、本实验采用Ar等离子体清洗2μm厚的铜箔，比较研究了Ar等离子清洗和常规清洗的不同，且对不同条件下清洗铜箔的表面性质进行研究．实验结果表明，常规有机溶剂清洗的铜箔，表面有微量的油污残留，暴露在空气中易氧化，经Ar等离子体清洗的铜箔，表面洁净、暴露在空气中不易氧化，Ar等离子体清洗10～20min，表面性质最佳，清洗彻底，润湿角明显减小（减小近20°），表面自由能增大（增大18.5％）、表面光洁度满足制靶要求.
- 陆晓曼吴卫东孙卫国张继成郭强唐永建
- 关键词：表面处理接触角
- 采用发射光谱和朗缪尔探针诊断低温低压氢等离子体被引量：5
- 2008年
- 使用发射光谱诊断法和Langmuir探针诊断法,测量了螺旋波激发等离子体化学气相沉积装置中产生的氢等离子体的发射光谱和电流-电压曲线。运用日冕模型和Druyvestey方法,对不同放电参数条件下激发态氢原子密度?等离子体密度及电子能量分布的变化规律进行了研究。结果表明:激发态氢原子密度随射频功率增大而增大,随工作气压的增大先增大,后缓慢下降。等离子体密度随射频功率增大线性增大,随工作气压的增加也是先增大,出现峰值后缓慢下降。电子平均能量随射频功率的变化是先增大,后达到平衡;随着工作气压的增大逐渐减小。两种诊断方法得到的结果基本相符。在低温低压等离子诊断中,两种诊断方法结合使用,可以得到更准确和更多的等离子体信息。
- 朱永红吴卫东陆晓曼唐永建孙卫国
- 关键词：等离子体诊断发射光谱LANGMUIR探针
- 类金刚石薄膜的反应离子刻蚀被引量：1
- 2008年
- 为了刻蚀出图形完整、侧壁陡直、失真度小、独立的类金刚石薄膜微器件,反应离子刻蚀是一种有效地刻蚀方法。研究了氧气与氩气的混合气体进行类金刚石薄膜刻蚀的主要工艺参数(刻蚀时间、有无掩膜、氩氧体积混合比、负偏压)。研究结果表明:在相同条件下,刻蚀速率随刻蚀时间变化不大;有无掩膜对刻蚀速率无明显影响;流量一定时,刻蚀速率随氩氧体积比的增大而降低,随负偏压的增大先增大后减小。实验得到最佳刻蚀条件,在此条件下,刻蚀出图形完整、侧壁陡直、失真度小的微器件,并成功制备出"独立"的微齿轮,进行了组装。
- 吴卫东陆晓曼张继成朱永红郭强唐永建孙卫国
- 关键词：反应离子刻蚀类金刚石薄膜微齿轮
- 电子回旋共振微波等离子体刻蚀α：CH薄膜的工艺被引量：3
- 2008年
- 为了刻蚀出图形完整、侧壁陡直、失真度小的α:CH薄膜微器件,研究了有铝和无铝掩膜、气体流量比、工作气压对刻蚀速率的影响,并对纯氧等离子体刻蚀稳定性进行了研究。研究结果表明:在相同条件下,刻蚀速率随刻蚀时间变化不大;α:CH薄膜上有铝和无铝掩膜时,刻蚀速率相同;流量一定时,刻蚀速率随氩气和氧气体积比的增大而降低,当用纯氩气时,几乎没刻蚀作用;刻蚀速率随工作气压的增大而降低。实验中,得到最佳刻蚀条件是:纯氧气,流量4 mL.s-1,工作气压9.9×10-2Pa,微波源电流80 mA,偏压-90 V。
- 陆晓曼张继成吴卫东朱永红郭强唐永建孙卫国
- 关键词：离子刻蚀微齿轮
