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徐维锋
作品数:
2
被引量:1
H指数:1
供职机构:
华中理工大学固体电子学系
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相关领域:
电子电信
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合作作者
曹广军
华中理工大学固体电子学系
刘三清
华中理工大学固体电子学系
应建华
华中理工大学固体电子学系
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年份
1篇
1998
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对接沟道NMOS结构击穿特性的二维数值分析
1998年
对VDMOS-NMOS兼容集成结构击穿时的电场特性进行了二维数值模拟,模拟结果分析表明:在适当的器件几何尺寸与制造工艺条件下,对接NMOS的对接区域对VDMOS-NMOS兼容结构的击穿特性影响很小,对接沟道NMOS结构可以较好地实现VDMOSFET与p阱NMOS电路的兼容集成.同时通过原理性实验对模拟结果进行了验证.
徐维锋
刘三清
应建华
曹广军
关键词:
功率集成电路
VDMOS
数值模拟
击穿特性
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