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文献类型

  • 6篇专利
  • 1篇会议论文

领域

  • 2篇金属学及工艺
  • 1篇一般工业技术
  • 1篇文化科学
  • 1篇理学

主题

  • 6篇离子注入
  • 2篇等离子体
  • 2篇等离子体发生...
  • 2篇等离子体技术
  • 2篇电极
  • 2篇气相沉积
  • 2篇曲面零件
  • 2篇阻挡放电
  • 2篇离子注入技术
  • 2篇介质
  • 2篇介质阻挡
  • 2篇介质阻挡放电
  • 2篇介质阻挡放电...
  • 2篇金属
  • 2篇金属电极
  • 2篇金属零件
  • 2篇化学气相
  • 2篇化学气相沉积
  • 2篇溅射
  • 2篇过渡层

机构

  • 7篇中航工业北京...
  • 1篇大连理工大学

作者

  • 7篇马国佳
  • 7篇马贺
  • 6篇武洪臣
  • 6篇孙刚
  • 4篇王剑锋
  • 4篇刘星
  • 2篇张林
  • 1篇林国强
  • 1篇张林

年份

  • 1篇2014
  • 2篇2012
  • 4篇2011
7 条 记 录,以下是 1-7
排序方式:
介质阻挡放电等离子体发生器的电极制造方法
本发明属于等离子体技术领域,涉及对介质阻挡放电等离子体发生器的电极制造方法的改进。其特征在于,利用离子注入及沉积设备在绝缘介质材料上沉积金属电极,制造的步骤如下:清洗绝缘介质材料;粘贴掩膜胶带;安装离子注入及沉积设备的溅...
马国佳马贺孙刚王剑锋武洪臣
金属零件表面制备高附着力Ta和TaN叠层薄膜的方法
本发明属于金属零件表面处理技术,涉及对金属零件表面Ta/TaN叠层薄膜制备方法的改进。其特征在于,利用交替离子注入及沉积方法制备Ta/TaN叠层薄膜,制备的步骤如下:对零件表面进行清洗;制备过渡层;沉积TaN;在TaN层...
马国佳孙刚马贺刘星王剑锋武洪臣
文献传递
一种在材料表面制备疏水薄膜的方法
本发明属于材料表面改性技术领域,涉及对材料表面疏水薄膜制备方法的改进。其特征在于,利用高能离子束对基体材料进行轰击以产生无规则的微纳突起结构,并利用离子注入技术形成过渡层,最后进行化学气相沉积或反应磁控溅射形成疏水薄膜,...
马国佳孙刚张林马贺刘星武洪臣
在金属零件表面制备高附着力Ta/TaN叠层薄膜的方法
本发明属于金属零件表面处理技术,涉及对金属零件表面Ta/TaN叠层薄膜制备方法的改进。其特征在于,利用交替离子注入及沉积方法制备Ta/TaN叠层薄膜,制备的步骤如下:对零件表面进行清洗;制备过渡层;沉积TaN;在TaN层...
马国佳孙刚马贺刘星王剑锋武洪臣
介质阻挡放电等离子体发生器的电极制造方法
本发明属于等离子体技术领域,涉及对介质阻挡放电等离子体发生器的电极制造方法的改进。其特征在于,利用离子注入及沉积设备在绝缘介质材料上沉积金属电极,制造的步骤如下:清洗绝缘介质材料;粘贴掩膜胶带;安装离子注入及沉积设备的溅...
马国佳马贺孙刚王剑锋武洪臣
文献传递
电弧离子镀Ti(C,T)/a-C纳米复合薄膜结构和力学性能研究
采用脉冲偏压电弧离子镀沉积系统在钛合金基体上制备出Ti(C,N)/a-C复合薄膜,系统地研究了相组分对薄膜的形貌、结构和性能的影响。研究表明:所制备的薄膜为纳米复合结构薄膜,即纳米晶Ti(C,N)颗粒弥散分布在非晶碳基体...
张林马贺马国佳林国强
关键词:力学性能电弧离子镀
一种在材料表面制备疏水薄膜的方法
本发明属于材料表面改性技术领域,涉及对材料表面疏水薄膜制备方法的改进。其特征在于,利用高能离子束对基体材料进行轰击以产生无规则的微纳突起结构,并利用离子注入技术形成过渡层,最后进行化学气相沉积或反应磁控溅射形成疏水薄膜,...
马国佳孙刚张林马贺刘星武洪臣
文献传递
共1页<1>
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