您的位置: 专家智库 > >

张东平

作品数:3 被引量:13H指数:2
供职机构:中国科学技术大学物理学院物理系更多>>
发文基金:国家自然科学基金更多>>
相关领域:电子电信理学更多>>

文献类型

  • 3篇中文期刊文章

领域

  • 2篇电子电信
  • 1篇理学

主题

  • 2篇金刚石
  • 2篇刚石
  • 1篇电路
  • 1篇应力
  • 1篇散射
  • 1篇射线
  • 1篇气相沉积
  • 1篇微波功率
  • 1篇金刚石薄膜
  • 1篇抗腐蚀
  • 1篇抗腐蚀性
  • 1篇化学气相
  • 1篇化学气相沉积
  • 1篇集成电路
  • 1篇光刻
  • 1篇光刻技术
  • 1篇光谱
  • 1篇光谱分析
  • 1篇腐蚀性
  • 1篇RAMAN光...

机构

  • 3篇中国科学技术...

作者

  • 3篇乐德芬
  • 3篇张东平
  • 2篇胡一贯

传媒

  • 1篇光谱学与光谱...
  • 1篇应用光学
  • 1篇微细加工技术

年份

  • 1篇2002
  • 2篇2001
3 条 记 录,以下是 1-3
排序方式:
同步辐射X射线光刻技术被引量:3
2001年
同步辐射 X射线光刻 (SRXL)是本世纪超大规模集成电路 (VLSI)发展中最有希望的深亚微米图形加工技术 ,本文综述了 SRXL技术研究的现状及存在的问题 。
张东平乐德芬胡一贯
关键词:X射线光刻技术集成电路
CVD金刚石薄膜的抗腐蚀性研究被引量:2
2001年
用微波等离子体化学气相沉积法在硅衬底上生长了金刚石薄膜 ;通过扫描电子显微镜和喇曼散射光谱对其性质进行了表征。将生成的样品分别放在氢氧化钾 ,四乙基氢氧化铵以及氢氟酸、硝酸和冰醋酸混合液中进行腐蚀研究 ,结果发现在氢氧化钾腐蚀液中 ,金刚石薄膜出现片状脱落现象 ,而在后两种腐蚀液中却表现出良好的抗腐蚀性。
张东平乐德芬胡一贯
关键词:化学气相沉积金刚石薄膜
MPCVD金刚石的Raman光谱分析被引量:8
2002年
用微波等离子体化学气相淀积法 (MPCVD)在Si基片上生长了金刚石薄膜 ,通过对其进行Raman光谱分析 ,一次表征了金刚石的结构、纯度及应力状况等材料性能 ,同时并研究了生长过程中微波功率与金刚石性质的关系。研究表明 ,微波等离子体化学气相淀积法生长的金刚石薄膜 ,除了金刚石成分的生长外 ,还会有部分非金刚石成分的生长 ,金刚石的纯度与微波功率的关系不明显 ,另外此种方法生长的金刚石薄膜主要表现为张应力。
张东平乐德芬胡一贯
关键词:MPCVD金刚石RAMAN散射应力微波功率
共1页<1>
聚类工具0