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磁头表面含氟三氯硅烷自组装膜的生长机理被引量：1: 2006年; 在磁头表面制备了1H,1H,2H,2H-四氢全氟辛烷基三氯硅烷(FOTS)自组装膜,采用X射线光电子能谱仪 (XPS)、时间飞行二次离子质谱仪(TOF-SIMS)、接触角测量仪和原子力显微镜(AFM)对FOTS自组装膜进行表征,研究了自组装膜的生长机理．结果表明,FOTS自组装膜的生长经过了亚单层膜的低等覆盖、亚单层膜的中等覆盖、团聚和聚结四个阶段．其中第一层和第二层自组装膜的亚单层膜形态和生长方式不同,第一层的亚单层膜呈岛状,岛的生长是自身向外扩展;第二层的亚单层膜呈簇状,簇通过数量增加来实现生长．超薄完整的单层FOTS自组装膜(膜厚为0．8 nm、Ra为0．125 nm)能使磁头表面的接触角值增加,疏水性能提高．; 胡晓莉雒建斌路新春

磁头表面含氟硅烷自组装膜的制备和摩擦学性能: 2005年; 利用分子自组装技术,在磁头表面制备1H,1H,2H,2H-全氟葵烷基三乙氧基硅烷(FTE)自组装膜。应用时间飞行二次离子质谱仪(TOF-SIMS)、原子力显微镜(AFM)和接触角测量仪对FTE自组装膜进行表征。通过O lympus磁头磁盘界面可靠性测试系统对FTE自组装膜的摩擦学性能进行研究。实验结果表明磁头表面可制备膜厚1.2 nm、接触角值110.6°、表面粗糙度0.198 nm的FTE单层自组装膜。FTE单层自组装膜能够降低磁头起停过程的粘着力、增强磁头的摩擦性能,具有良好的耐磨性能。; 胡晓莉雒建斌温诗铸; 关键词：磁头摩擦学性能

磁头表面氟代硅烷自组装膜的制备和表征被引量：2: 2006年; 采用分子自组装成膜技术,在磁头表面制备了1H,1H,2H,2H-全氟癸烷基三乙氧基硅烷(FTE)自组装膜。使用时间飞行二次离子质谱仪(TOF-S IM S)、X射线光电子能谱仪(XPS)、原子力显微镜(AFM)和接触角测量仪对FTE自组装膜进行了表征。XPS测得的FTE自组装膜C 1s谱图中有分谱出现在287.905 eV位置,这证明FTE分子以C—O—S i键与磁头表面结合。通过分析TOF-S IM S测量的不同反应时间的膜厚和其对应的AFM表面形貌图发现,FTE自组装膜形成过程分为表面亚单层膜低覆盖、表面亚单层膜中等覆盖、团聚和聚结4个阶段。实验结果表明,控制反应时间可以在磁头表面制备超薄平整的FTE自组装膜,膜厚为(1.20±0.01)nm,表面粗糙度小于0.2 nm。该层超薄膜使磁头对水的接触角增加到110.5°±0.1,°令磁头的疏水性能得到很大提高,进而较大幅度地提高了磁头表面的抗污染能力。; 胡晓莉雒建斌温诗铸; 关键词：磁头自组装膜

富勒烯(C_(60))的摩擦学研究进展被引量：10: 2002年; 本文综述了富勒烯(C60)在摩擦学中的研究进展。; 雷红雒建斌胡晓莉官文超; 关键词：富勒烯润滑添加剂摩擦学

计算机磁头、磁盘表面抛光和改性技术研究: 雒建斌路新春潘国顺温诗铸雷红高峰张朝辉胡志孟杨明楚王亮亮胡晓莉马俊杰徐进彭泳卿; 本项目主要针对硬盘储存密度提高过程所面临的表面改性和抛光技术开展了研究。成功地解决了计算机硬盘磁头表面的亚纳米级抛光液的制备、磁头表面的改性和磁盘基片CMP抛光液研制中的多个技术难点。开发出纳米金刚石粉研磨液的硬盘磁头表...; 关键词：; 关键词：表面波纹度表面粗糙度

磁头表面聚甲基丙烯酸氟代辛酯分子膜的制备及其摩擦学特性被引量：2: 2005年; 采用浸涂方法在磁头表面制备聚甲基丙烯酸氟代辛酯(PFAM)分子膜,对磁头表进行表面改性,并利用时间飞行二次离子质谱仪(TOF-SIMS)、接触角测量仪和原子力显微镜(AFM)对PFAM分子膜表征.测试结果表明,浓度是影响分子膜厚度、表面形貌和摩擦特性的主要因素.溶液浓度为500μg/g时制备的分子膜具有最好的摩擦磨损性能,磁头经过20000次起停循环后黏着力不超过2.4g.因此,磁头表面制备致密且缺陷少的PFAM分子膜有助于磁头磁盘之间的润滑,减少摩擦磨损,提高磁头的摩擦磨损性能.; 胡晓莉张晨辉雒建斌温诗铸; 关键词：类金刚石表面形貌摩擦学特性

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胡晓莉