路新春
- 作品数：350 被引量：355H指数：11
- 供职机构：清华大学更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金中国博士后科学基金国家重点基础研究发展计划更多>>
- 相关领域：机械工程金属学及工艺自动化与计算机技术电子电信更多>>
- 一种抛光垫修整头
- 本发明涉及化学机械抛光设备技术领域，特别涉及一种抛光垫修整头。主轴通过两组轴承轴向定位，避免主轴的轴向串动，轴承通过轴承端盖和套筒安装固定在轴承座内；轴承座及轴承端盖设有连通的气孔，并在轴承端盖的气孔上安装快换接头；主轴...
- 路新春沈攀何永勇雒建斌
- 文献传递
- 一种用于CMP抛光头多腔室的压力控制系统
- 一种用于CMP抛光头多腔室的压力控制系统，属于半导体制造技术领域，其特征在于包括压力源、控制阀组、压力传感器、CPU、数模以及模数转换电路等。该控制系统通过对各支路的压力与流量控制实现对远端各腔室的压力控制。控制阀组每条...
- 张辉门延武王同庆路新春叶佩青
- 文献传递
- 一种超声辅助化学机械抛光蓝宝石衬底材料的装置及方法
- 本发明公开了属于蓝宝石衬底材料的抛光技术领域的一种超声辅助化学机械抛光蓝宝石衬底材料的装置及方法。超声电源通过导线、碳刷和铜滑环接入超声换能器的正负接线柱上，超声换能器将电信号转化为机械振动信号，超声振动通过变幅杆传递给...
- 路新春许文虎潘国顺雷源忠雒建斌
- 文献传递
- 高压下受限齿轮油成膜特性研究被引量：1
- 2011年
- 本文揭示了在实际应用中极端工况下齿轮油的润滑特性.为了测量在高接触压力和不同温度条件下齿轮油的成膜能力,制作了高精度的膜厚测量仪,采用相对光强法实现纳米级膜厚测量.试验中共采用了5种性质不同的齿轮油,在纯滚动条件下测量接触区的油膜厚度,结果表明:随着接触压力的升高油膜厚度明显降低,但压力对润滑状态影响不大;温度的改变不但能影响油膜厚度,对润滑状态的影响也很明显;GL-5 85W/190和GL-5 85W/90齿轮油在接触压力达3 GPa温度提高到120℃时仍能形成很厚的油膜,但其余3种润滑剂在极端工况下成膜能力不足.本文最后根据试验结果还提出了含有丰富添加剂的齿轮油润滑模型.
- 肖华平郭丹刘书海路新春刘斌
- 关键词：润滑特性齿轮油薄膜润滑弹流润滑
- 一种膜厚测量方法、系统及化学机械抛光装置
- 本发明适用于化学机械抛光技术领域，提供了一种膜厚测量方法、系统及化学机械抛光装置，其中方法包括：根据离线采集的晶圆膜厚信息以及在抛光期间使用膜厚传感器进行动态测量时输出的信号值，获取输出信号与晶圆膜厚的映射关系；并利用所...
- 路新春田芳馨王同庆
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- 化学机械抛光机及具有它的化学机械抛光设备
- 本发明公开一种化学机械抛光机，包括：工作平台，抛光盘，修整器和抛光液输送装置，装卸平台，抛光头，机械手，和抛光头支架，所述抛光头支架安装在工作平台上表面上且包括水平基板和支撑侧板，所述水平基板形成有在其厚度方向上贯通的凹...
- 路新春许振杰何永勇王同庆沈攀赵德文梅赫赓张连清裴召辉雒建斌
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- 氨基乙酸-H_2O_2体系抛光液中铜的化学机械抛光研究被引量：6
- 2008年
- 在CP-4型CMP试验机上采用5μm厚的铜镀层片研究了氨基乙酸-H2O2体系抛光液中铜的化学机械抛光行为,分别采用Sartorius 1712MP8型电子天平和WYKO MHT-Ⅲ型光干涉表面形貌仪检测抛光去除率和抛光后表面粗糙度,用CHI660A型电化学工作站的动电位极化扫描技术和PHI-5300ESCA型X射线光电子能谱仪分析抛光液中氧化剂和络合剂等化学组分对铜的作用机制.结果表明,由于氧化剂H2O2对铜的氧化作用使得氨基乙酸对铜的络合速率从1.4 nm/min提高到47 nm/min,进而提高了铜的化学机械抛光去除率.当抛光压力≤10.35 kPa时,抛光后铜表面出现腐蚀坑,腐蚀坑面积比率随抛光过程相对运动速度的增大而减小;当抛光压力≥17.25 kPa时,铜表面腐蚀坑消失,在相对运动速度≥1 m/s条件下,表面粗糙度为3-5 nm;当抛光压力〉6.9 kPa,在相对运动速度≤1 m/s条件下,随着相对运动速度增大,机械作用增强,抛光去除率增大;当相对运动速度〉1 m/s时,抛光界面区抛光液润滑效应增强,抛光去除率有所降低,化学机械抛光过程中这一临界相对运动速度为1 m/s.
- 张伟路新春刘宇宏潘国顺雒建斌
- 关键词：化学机械抛光氨基乙酸腐蚀坑
- 导体膜的厚度的测量装置和测量导体膜的厚度的方法
- 本发明公开了一种导体膜的厚度的测量装置和测量导体膜的厚度的方法。所述导体膜的厚度的测量装置包括：电涡流传感器；测力传感器，测力传感器与电涡流传感器相连用于测量电涡流传感器受到的导体膜的电磁力的大小；前置信号处理模块，前置...
- 赵乾孟永钢余强路新春
- 一种电机内置式抛光机转台
- 本发明涉及抛光设备技术领域，特别是关于一种电机内置式抛光机转台。支撑轴承安装于轴承座和托盘之间，抛光盘安装于托盘上，支撑轴承为托盘提供一个高精度的旋转支撑；中间轴两端分别与托盘和悬伸轴联接，形成转轴组件；直驱电机转子套装...
- 路新春赵德文王同庆雒建斌
- 文献传递
- 晶圆片的卸片辅助装置、卸片装置和具有其的CMP设备
- 本实用新型公开了一种晶圆片的卸片辅助装置、卸片装置和具有其的CMP设备，所述晶圆片的卸片辅助装置包括：托盘、卸载支架和喷头，卸载支架设在托盘上，卸载支架的上表面形成有用于承接晶圆片的卸载面，卸载面上设有上下贯通的过水口；...
- 孙浩明路新春雒建斌温诗铸王同庆李昆沈攀
