您的位置： 专家智库 > >

沈攀

作品数：63 被引量：1H指数：1
供职机构：清华大学更多>>
发文基金：国家重点实验室开放基金国家科技重大专项更多>>
相关领域：自动化与计算机技术金属学及工艺电子电信交通运输工程更多>>

合作作者

文献类型

  • 61篇专利
  • 1篇期刊文章
  • 1篇科技成果

领域

  • 8篇自动化与计算...
  • 4篇金属学及工艺
  • 3篇电子电信
  • 2篇建筑科学
  • 2篇交通运输工程
  • 1篇文化科学
  • 1篇自然科学总论

主题

  • 30篇晶圆
  • 25篇抛光
  • 14篇修整器
  • 13篇化学机械抛光
  • 13篇机械抛光
  • 13篇机械手
  • 11篇修整
  • 11篇托架
  • 10篇控制器
  • 8篇抛光垫
  • 7篇组件
  • 7篇干燥装置
  • 6篇抛光液
  • 6篇涡流传感器
  • 6篇感器
  • 6篇传感
  • 6篇传感器
  • 5篇刷洗
  • 5篇抛光效果
  • 5篇清洗液

机构

  • 63篇清华大学
  • 3篇天津华海清科...
  • 1篇华海清科股份...

作者

  • 63篇沈攀
  • 59篇路新春
  • 39篇何永勇
  • 17篇王同庆
  • 14篇许振杰
  • 11篇雒建斌
  • 8篇裴召辉
  • 8篇赵德文
  • 6篇梅赫赓
  • 6篇张连清
  • 5篇徐海滨
  • 4篇潘燕
  • 4篇郭振宇
  • 3篇赵乾
  • 3篇张莉瑶
  • 2篇周顺
  • 2篇赵建伟
  • 2篇郭垒
  • 1篇张昕
  • 1篇周凯

传媒

  • 1篇华中科技大学...

年份

  • 2篇2020
  • 2篇2018
  • 3篇2017
  • 1篇2016
  • 6篇2015
  • 7篇2014
  • 6篇2013
  • 16篇2012
  • 20篇2011
共 63 条 记 录，以下是 1-10
全选 清除 导出
排序方式：
一种抛光垫修整头
本发明涉及化学机械抛光设备技术领域，特别涉及一种抛光垫修整头。主轴通过两组轴承轴向定位，避免主轴的轴向串动，轴承通过轴承端盖和套筒安装固定在轴承座内；轴承座及轴承端盖设有连通的气孔，并在轴承端盖的气孔上安装快换接头；主轴...
路新春沈攀何永勇雒建斌
文献传递
化学机械抛光机及具有它的化学机械抛光设备
本发明公开一种化学机械抛光机，包括：工作平台，抛光盘，修整器和抛光液输送装置，装卸平台，抛光头，机械手，和抛光头支架，所述抛光头支架安装在工作平台上表面上且包括水平基板和支撑侧板，所述水平基板形成有在其厚度方向上贯通的凹...
路新春许振杰何永勇王同庆沈攀赵德文梅赫赓张连清裴召辉雒建斌
文献传递
一种用于化学机械抛光设备的晶圆交换装置
本发明为一种用于化学机械抛光设备的晶圆交换装置，属于化学机械抛光设备技术领域，包括一举升架，举升架上部通过中空腔体与举升架下部贯通连接，举升架下部上安装有控制举升架升降的第一气缸和直线轴承，导向轴穿过直线轴承，举升架上部...
路新春张连清沈攀何永勇
文献传递
晶圆台
本发明公开了一种晶圆台，所述晶圆台包括：电机；金属盘，金属盘与电机相连由电机驱动旋转，金属盘设有沿上下方向贯通金属盘的通气孔，其中通气孔的中心线、金属盘的中心线和金属盘的旋转轴线重合；非金属盘，非金属盘设在金属盘的上表面...
路新春赵德文赵乾沈攀何永勇
利用化学机械抛光设备进行化学机械抛光的方法
本发明公开了一种利用化学机械抛光设备进行化学机械抛光的方法，所述化学机械抛光设备包括多个化学机械抛光机、机械手和过渡装置，其中所述多个化学机械抛光机和所述过渡装置围绕所述机械手布置，所述方法包括以下步骤：A)通过所述机械...
路新春沈攀
文献传递
晶圆清洗设备
本发明公开了一种晶圆清洗设备。所述晶圆清洗设备包括：机架；晶圆清洗装置，所述晶圆清洗装置设在所述机架上；晶圆刷洗装置，所述晶圆刷洗装置设在所述机架上且位于所述晶圆清洗装置的下游侧；晶圆干燥装置，所述晶圆干燥装置设在所述机...
路新春沈攀何永勇
文献传递
用于控制修整器的气动控制回路和修整设备
本发明公开了一种用于控制修整器的气动控制回路和修整设备。所述用于控制修整器的气动控制回路包括正压控制支路、真空支路和切换阀。所述正压控制支路包括：减压阀，所述减压阀与气源相连；和第一控制阀，所述第一控制阀与所述减压阀相连...
路新春沈攀
文献传递
抛光液温度控制装置和抛光液输送设备
本发明公开了一种抛光液温度控制装置和抛光液输送设备。所述抛光液温度控制装置包括：第一和第二加热容器、第一和第二发热元件、抛光液换热管、第一和第二温度检测器，第一温度检测器邻近第一加热容器的出口，第二温度检测器设在抛光液换...
路新春潘燕沈攀何永勇
文献传递
晶圆在位检测装置以及晶圆在位检测方法
本发明公开了一种晶圆在位检测装置以及晶圆在位检测方法。所述晶圆在位检测装置包括：真空产生器；多个检测气孔，每个所述检测气孔均通过管路与所述真空产生器相连，其中所述多个检测气孔并联；第一过滤器，所述第一过滤器设在所述管路上...
路新春沈攀何永勇
文献传递
抛光垫修整方法
本发明公开了一种抛光垫修整方法，所述抛光垫修整方法包括：利用修整器对抛光垫进行修整，其中在所述修整器的修整头从所述抛光垫的中心向所述抛光垫的外沿摆动的过程中，所述修整头的摆动频率、旋转速度和修整压力中的至少一个减小，且在...
路新春王同庆沈攀
全选 清除 导出
共7页<1234567>
聚类工具0