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文献类型

  • 2篇会议论文
  • 1篇专利

主题

  • 3篇冷阴极
  • 2篇离子
  • 2篇离子源
  • 1篇电压
  • 1篇镀膜
  • 1篇镀膜机
  • 1篇性能分析
  • 1篇性能指标
  • 1篇氧化物薄膜
  • 1篇真空镀膜
  • 1篇真空镀膜机
  • 1篇离子能量
  • 1篇离子束
  • 1篇工作气体
  • 1篇光学
  • 1篇光学薄膜
  • 1篇放电
  • 1篇氟化镁

机构

  • 3篇西安工业学院

作者

  • 3篇夏慧琴
  • 2篇严一心
  • 2篇刘卫国
  • 2篇卢进军
  • 1篇王树棠
  • 1篇刘吉祥

传媒

  • 1篇第五届全国光...
  • 1篇全国光学薄膜...

年份

  • 1篇1990
  • 1篇1988
  • 1篇1986
3 条 记 录,以下是 1-3
排序方式:
宽束冷阴极离子源
本实用新型是宽束冷阴极离子源,用于薄膜离子束辅助淀积的装置,其主要部件是冷阴极、阳极和一个以上多孔引出栅组成的放电室,放电室处于永磁体形成的磁场中,该离子源可安装于各类真空镀膜机中,具有离子束束流密度和离子能量调节范围大...
严一心夏慧琴卢进军王树棠刘吉祥刘卫国
文献传递
用于离子束辅助技术的冷阴极宽束离子源
严一心夏慧琴
关键词:离子源镀膜离子束冷阴极光学薄膜性能分析
冷阴极宽束离子源
夏慧琴卢进军刘卫国
关键词:离子源性能指标放电
共1页<1>
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