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陈岭

作品数:3 被引量:1H指数:1
供职机构:南京大学物理学院物理学系更多>>
相关领域:电子电信理学更多>>

文献类型

  • 3篇中文期刊文章

领域

  • 2篇电子电信
  • 1篇理学

主题

  • 3篇正电子
  • 3篇正电子湮没
  • 1篇导体
  • 1篇砷化镓
  • 1篇退火
  • 1篇退火行为
  • 1篇辐照
  • 1篇高TC超导体
  • 1篇SI
  • 1篇SI-GAA...
  • 1篇掺杂
  • 1篇超导
  • 1篇超导体
  • 1篇Y-BA-C...
  • 1篇GAAS
  • 1篇N-GAAS

机构

  • 3篇南京大学
  • 1篇南京电子器件...

作者

  • 3篇滕敏康
  • 3篇陈岭
  • 2篇吴凤美
  • 1篇张德宏
  • 1篇唐杰

传媒

  • 2篇南京大学学报...
  • 1篇Journa...

年份

  • 1篇1990
  • 2篇1989
3 条 记 录,以下是 1-3
排序方式:
高Tc超导体Y-Ba-Cu-O超导临界涨落的正电子湮没研究
1989年
利用正电子湮没技术寿命谱测量系统首次细致地测量了高Tc超导体Y-Ba-Cu-O材料在Tc转变点附近的正电子湮没寿命谱参数的变化特性,发现在Tc处正电子湮没寿命呈峰。根据超导涨落的KSS理论和BCS超导理论的形式,推导出了正电子在超导转变溫度Tc附近超导态和正常态内的湮没率公式。经计算机数值积分得到与实验一致的结果,从而解释了实验上发现的异常现象。
陈岭滕敏康
关键词:高TC超导体正电子湮没
SI^-、n-GaAs正电子湮没特性的研究被引量:1
1989年
用正电子湮没技术,研究了半绝缘(SI)和掺Te的n型GaAs的退火行为及外延工艺的影响.结果表明,GaAs的平均寿命τ_M,长寿命τ_2,和基块寿命τ_b依赖于掺杂,同时τ_2的变化与镓空位和多镓空位均有关.外延后,由于退火的效果,I_2的降低和τ_2的增加是明显的.文中还讨论了电子和中子辐照的影响.
吴凤美沈德勋滕敏康陈岭唐杰张德宏
关键词:GAAS正电子湮没
未掺杂SI-GaAs退火行为的正电子湮没研究
1990年
用正电子湮没技术,研究了未掺杂的SI-GaAs退火行为。结果表明,长寿命分量τ_2的变化不仅与镓空位而且和多镓空位络合物有关。本文还讨论了电子和中子辐照的影响。
吴凤美滕敏康沈德熏陈岭
关键词:砷化镓正电子湮没退火行为辐照
共1页<1>
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