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黄小力

作品数：1 被引量：7H指数：1
供职机构：北京化工大学高分子系更多>>
相关领域：电子电信更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇电子电信

主题

  • 1篇亚胺
  • 1篇亚胺化
  • 1篇酰亚胺
  • 1篇耐热
  • 1篇耐热性
  • 1篇聚酰亚胺
  • 1篇光刻
  • 1篇光刻工艺
  • 1篇光刻胶
  • 1篇光敏聚酰亚胺
  • 1篇胺化

机构

  • 1篇北京化工大学

作者

  • 1篇白宗武
  • 1篇黄毓礼
  • 1篇张秋红
  • 1篇黄小力

传媒

  • 1篇感光科学与光...

年份

  • 1篇1995
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
光敏聚酰亚胺光刻胶及光刻工艺的研究被引量：7
1995年
光敏聚酰亚胺光刻胶及光刻工艺的研究白宗武，张秋红，黄小力，黄毓礼（北京化工大学高分子系，北京１０００２９）关键词聚酰亚胺，光刻胶，光刻工艺，亚胺化，耐热性聚酰亚胺（ｐｏｌｙｉｍｉｄｅ简称ＰＩ）树脂耐热性，电绝缘性能优良，在机电工业中有着广泛的应用。近...
白宗武张秋红黄小力黄毓礼
关键词：聚酰亚胺光刻胶光刻工艺亚胺化耐热性
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