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林冠群

作品数:7 被引量:0H指数:0
供职机构:北京科技大学材料科学与工程学院更多>>
发文基金:中央高校基本科研业务费专项资金国家重点实验室开放基金国家重点基础研究发展计划更多>>
相关领域:金属学及工艺理学一般工业技术冶金工程更多>>

文献类型

  • 3篇专利
  • 2篇期刊文章
  • 2篇会议论文

领域

  • 2篇金属学及工艺
  • 1篇化学工程
  • 1篇冶金工程
  • 1篇一般工业技术
  • 1篇理学

主题

  • 4篇光催化
  • 4篇催化
  • 2篇脱脂
  • 2篇脱脂方法
  • 2篇脱脂剂
  • 2篇纳米光催化
  • 1篇镀铜
  • 1篇镀铜工艺
  • 1篇形貌
  • 1篇陶瓷
  • 1篇陶瓷表面
  • 1篇铜材
  • 1篇铜工艺
  • 1篇铜基
  • 1篇图像
  • 1篇图像处理
  • 1篇图像处理软件
  • 1篇清洁度
  • 1篇自动识别
  • 1篇自由基

机构

  • 7篇北京科技大学

作者

  • 7篇林冠群
  • 6篇刘雪峰
  • 5篇彭展南
  • 3篇谢建新
  • 1篇刘敏

传媒

  • 1篇高等学校化学...
  • 1篇中南大学学报...
  • 1篇第二届海峡两...

年份

  • 1篇2017
  • 2篇2016
  • 2篇2015
  • 2篇2014
7 条 记 录,以下是 1-7
排序方式:
聚α烯烃光催化降解的机理研究
2016年
采用光催化微反应器对铜箔表面附着的聚α烯烃进行了光催化降解处理,利用X射线光电子能谱(XPS)、电子自旋共振谱(ESR)和傅里叶变换红外光谱(FTIR)等对光催化降解前后聚α烯烃的元素化学状态、自由基和官能团进行了检测,并探讨了光催化降解机理.结果表明,聚α烯烃光催化降解过程中发生了含氧基团的引入和CO_2脱附;参加降解反应的自由基主要为羟基自由基·OH,降解过程中—OH逐渐增多、C—H键逐渐减少;聚α烯烃光催化降解过程中,·OH进攻聚α烯烃是从取代反应开始的,首先取代的是末端的氢原子,然后是末端羟基向醛基和羧基的转变,最后是碳链断裂形成小分子有机物,这一过程持续进行,最终生成CO_2和H_2O等无机物.
彭展南刘雪峰林冠群
关键词:自由基官能团降解机理
铜基表面钯层置换镀制备及其成膜机制与界面演变规律
采用二氯化钯为主盐、氯化钠为配位剂制备了置换型镀钯液,通过对施镀时间的控制,在纯铜表面制备了金属钯镀层,利用扫描电镜、聚焦离子束技术对不同施镀时间下获得的钯镀层表面和界面进行了表征,揭示了纯铜基置换镀钯的成膜机制及界面演...
林冠群
一种铜材表面清洁度的定量表征方法
一种铜材表面清洁度的定量表征方法,属于铜材检测技术领域。其特征是,将铜材浸入0.005~1.5mol/L的AgNO<Sub>3</Sub>溶液中,反应0.5~150s,取出后于50~200℃烘干;然后在光学显微镜下观察铜...
刘雪峰彭展南林冠群谢建新
文献传递
多硫化钠法表征纯铜带表面清洁度
2017年
利用多硫化钠(Na_2S_x)溶液与纯铜带反应,采用光学显微镜(OM)、扫描电镜(SEM)、X线衍射仪(XRD)和X线光电子能谱仪(XPS)对反应后表面层的形貌、物相和元素进行分析,考察硫指数x和反应时间对表面层形貌的影响,并对多硫化钠法表征纯铜带表面清洁度的可行性进行探讨。研究结果表明:与多硫化钠反应后,纯铜带的表面层主要由黑色或灰黑色Cu_2S组成的析出层,Cu_2S的形貌不随时间而变化,保持均匀、光滑的颗粒状。随硫指数的增加和反应时间的延长,纯铜带的表面层形貌变化规律一致,均为Cu_2S析出层逐渐加厚,Cu_2S小颗粒聚集形成短棒或大颗粒,然后析出层出现开裂,最后是裂纹的扩展和脱落。多硫化钠法可以用于定量表征纯铜带的表面清洁度,反应后纯铜带表面黑色区域面积占整个纯铜带表面面积的百分比即为纯铜带的表面清洁度。
彭展南刘雪峰林冠群
关键词:表面形貌
Al2O3陶瓷表面局部光催化镀铜工艺及表征
采用模板控形工艺实现了Al2O3陶瓷表面局部光催化镀铜,利用SEM、EDS、LEXT、PPMS、电子式万能试验机等手段对Cu/纳米Ti O2/Al2O3陶瓷复合材料的表面形貌、镀层厚度、电阻率、结合强度等指标进行了表征。...
刘敏刘雪峰林冠群
文献传递
一种材料表面光催化脱脂装置及光催化脱脂方法
一种材料表面光催化脱脂装置及光催化脱脂方法,属于材料表面处理技术领域。其特征是,材料表面光催化脱脂装置由供料机(1)、前压辊(2)、供水机构(3)、外表面沉积纳米半导体薄膜的玻璃管(4)、光源(5)、清洗器(6)、积液槽...
刘雪峰彭展南林冠群谢建新
文献传递
一种材料表面光催化脱脂装置及光催化脱脂方法
一种材料表面光催化脱脂装置及光催化脱脂方法,属于材料表面处理技术领域。其特征是,材料表面光催化脱脂装置由供料机(1)、前压辊(2)、供水机构(3)、外表面沉积纳米半导体薄膜的玻璃管(4)、光源(5)、清洗器(6)、积液槽...
刘雪峰彭展南林冠群谢建新
文献传递
共1页<1>
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